光学镀膜膜厚仪的测量原理是?
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  • 光学镀膜膜厚仪的测量原理主要基于光学干涉现象。当光源发射出的光线照射到镀膜表面时,一部分光线被反射,而另一部分则穿透薄膜并可能经过多层反射后再透出。这些反射和透射的光线之间会产生干涉效应。具体来说,膜厚仪通常会将光源发出的光分成两束,一束作为参考光,另一束则作为测试光照射到待测薄膜上。参考光和测试光在薄膜表面或附近相遇时,由于光程差的存在,会发生干涉现象。干涉的结果会导致光强的变化,这种变化与薄膜的厚度密切相关。膜厚仪通过******测量这种干涉光强的变化,并结合薄膜的光学特性(如折射率、吸收率等),可以推导出薄膜的厚度信息。此外,膜厚仪还可以利用不同的测量方法,如反射法或透射法,来适应不同类型的材料和薄膜,从而提高测量的准确性和可靠性。总之,光学镀膜膜厚仪通过利用光学干涉原理,结合精密的测量技术,能够实现对薄膜厚度的非接触、无损伤测量,为薄膜制备和应用领域提供了重要的技术支持。

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