价格: | 238000.0000 / 台 |
二、产品优势:
***的软件控制系统:系统集工艺配方、参数设置、权限设定、互锁报警、状态监控等功能于一体。三、技术指标:
基片尺寸 8英寸及以下尺寸 基片加热温度 室温~300℃ 前驱体源路数 标准3路前驱体管路,可选配 前驱体管路温度 室温~200℃,控制精度±0.1℃ 源瓶加热温度 室温~200℃,控制精度±0.1℃ ALD阀 Swagelok快速高温ALD***阀 本底真空 <5x10-3Torr,进口防腐泵(标配国产机械泵) 载气系统 N2或者Ar 长模式 连续和停留沉积模式任意选择 控制系统 PLC+触摸屏或者显示器 电源 50-60Hz,220V/20A交流电源 沉积非均匀性 非均匀性<±1% 设备尺寸 600mm x 600mm x 1100mm四、可沉积薄膜种类:
单 质:Co, Cu, Ta, Ti, W, Ge, Pt, Ru, Ni, Fe… 氮化物:TiN, SiN, AlN, TaN, ZrN, HfN, WN … 氧化物:TiO2, HfO2, SiO2, ZnO, ZrO2, Al2O3, La2O3, SnO2… 其它化合物:GaAs, AlP, InP, GaP, InAs, LaHfxOy, SrTiO3,SrTaO6…五、ALD应用实例:
存储容性电介质,铜互连中高深宽比扩散阻挡层,OLED无**钝化层,MEMS的高均匀镀膜,纳米多孔结构镀膜,特种光纤掺杂,太阳能电池,平板显示器,光学薄膜,其它各类特殊结构纳米薄膜。温馨提示:以上是关于原子层沉积镀膜的详细介绍,产品由北京维意真空技术应用有限责任公司为您提供,如果您对北京维意真空技术应用有限责任公司产品信息感兴趣可以联系供应商或者让供应商主动联系您 ,您也可以查看更多与行业专用设备相关的产品!
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