磁控溅射镀膜机
北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜机,电子束蒸发镀膜机,多弧离子溅射镀膜机,热丝CVD设备,装饰镀膜机,硬质涂层设备等。
磁控溅射镀膜仪
磁控溅射
磁控溅射是物理的气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,而上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
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直流磁控溅射技术
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磁控溅射镀膜仪
直流磁控溅射技术
为了解决阴极溅射的缺陷,人们在20世纪开发出了直流磁控溅射技术,磁控溅射镀膜仪,它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的弱点,因而获得了迅速发展和广泛应用。其原理是:在磁控溅射中,由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力,它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产生螺旋运动,其运动路径变长,因而增加了与工作气体分子碰撞的次数,使等离子体密度增大,从而磁控溅射速率得到很大的提高,而且可以在较低的溅射电压和气压下工作,降低薄膜污染的倾向;另一方面也提高了入射到衬底表面的原子的能量,因而可以在很大程度上改善薄膜的质量。同时,经过多次碰撞而丧失能量的电子到达阳极时,已变成低能电子,从而不会使基片过热。因此磁控溅射法具有“高速”、“低温”的优点。该方法的缺点是不能制备绝缘体膜,而且磁控电极中采用的不均匀磁场会使靶材产生显著的不均匀刻蚀,导致靶材利用率低,一般仅为20%-30%。
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磁控溅射镀膜机
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磁控溅射镀膜仪
目前国内窗膜行业的批发商及终端店很多人都吃过磁控镀银膜氧化的亏,产品卖出后几个月,开始大面积氧化,需要赔偿,甚至还失去了客户。特别是NSN系列在13、14年出的问题特别多,搞得很多人谈磁控膜色变的地步。而在15、16年后,问题得到解决。慢慢地就没多少氧化问题出现了。这也让很多刚接触磁控膜的人以为磁控膜都是镀银的膜,一说磁控膜就问会不会氧化。其实大可不必担心,大部分的侧档都不是银的,请放心使用。且这两年的技术进步,国内各磁控工厂也找到了解决氧化的方法。其实在玻璃镀膜行业,早就解决了氧化问题,我记得早期的low-e玻璃在镀膜后必须在24小时内合成中空,不然就会氧化。当时low-e与中空都是镀膜厂做的,下边玻璃加工厂根本无法介入,而现在镀膜厂只需生产玻璃镀膜原片。且玻璃原片爆露在空气中可达6个月以上,都不会氧化。这样中空玻璃,一些门窗厂,幕墙公司、小规模的玻璃深加工工厂,都可以生产low-e中空玻璃了,加上***政策的支持与引导,大大的加快了low-e玻璃的发展与普及。做窗膜磁控溅射镀膜的应多去看看玻璃行业的low-e镀膜,磁控溅射镀膜仪生产厂家,多些交流。毕竟生产原理是一样的东西,技术是相通的。很多东西是可以套用的,low-e镀膜得到了规模化的发展,技术工艺已非常成熟了。窗膜磁控溅射镀膜***终是要与玻璃配套的,如何与玻璃上直接镀膜做差异化发展,才是正道。就目前来说,仅从隔热性能、保温性能上与玻璃对抗,是不可能有成本上优势的。但都是镀膜,如何做差异化,我目前也只是抛砖引玉,只有大家一起开动脑袋了。
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