扩散炉用于扩散, 氧化, 退火, 合金和烧结过程的 LSI, 分立器件, 电力电子, 光电器件和光纤。扩散过程的主要目的是在高温下掺杂半导体晶片, 并将元素磷和硼扩散到硅片中, 从而改变和控制杂质的种类、浓度和分布,扩散炉的说明,半导体为了建立不同的电子特征区域。
垂直扩散炉是一种垂直于水平水平的石英船, 更有利于硅片的机械手传动, 在胶片中的工艺参数的一致性较好。
水平扩散炉是一种与水平面平行的石英舟, 一罐4或4以上的工艺炉管, 平均炉管占地面积较小, 工艺参数之间的薄膜比垂直扩散炉好。
扩散炉是研制生产晶体管、可控硅和集成电路等半导体器件的工艺设备之一,扩散炉价格,主要用于扩散和氧化等工序。
扩散炉主要由控制部分、净化部分、电阻加热炉部门、气路部分组成。控制部分主要控制进出口,电阻加热炉主要是控制扩散炉的温度部分,扩散炉品牌,气路主要控制扩散源的流量及尾气的排放量。
扩散炉是一种能自动控制温度的电阻炉。由温度控制器、可控硅装置和炉体构成。炉体由保温材料、加热丝和炉管组成。温度控制器可控制装置对炉温进行自动控制,使炉膛温度保持稳定、均匀,以满足工艺要求。
扩散炉失控通常是温度控制系统的检测或控制器件出现了故障,导致系统无法实现对温度的控制,昆明扩散炉,此时,温度不能保持恒定,高温扩散炉,如果不手动关机,炉膛内的温度将会一直上升,直至超过设定的温度保护值而自动跳闸并发出超温报警。引起这种故障的原因有以下几种可能:
1、可控硅击穿短路
2、热电偶短路。
3、补偿导线短路。
4、热电偶+、-极接反。
5、补偿导线+、-极接反。
6、可控硅触发板输出击穿短路。
7、温控仪故障。
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