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东莞市和川机械设备科技有限公司
主营：LED手动曝光机,LED半自动曝光机,LED卷对卷曝光机
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中国半导体实现新突破：成功进军***首条5nm芯片制程生产线
另外，除了光刻机，蚀刻机也是半导体工艺中不可缺少的一步。据了解，合川机械，光刻机、蚀刻机和MOCVD等设备，一并被称为半导体工艺三大关键设备。刻蚀机作为芯片制造中的一种关键设备，合川机械公司，用来在芯片上进行微观雕刻，一定程度上决定了芯片制造的较高水平。然而，鲜为人知的是，我国国产刻蚀机水平早已优先世界。
NXQ8000系列掩膜曝光机满足科学研究，工艺级生产等多领域的应用。完全采用非接触式100%标定系统，对晶圆和掩膜没有伤害，大大提高间隙精度
非接触式掩膜对准机maskaligner适合各种电子元器件，合川机械厂商，包括半导体，LED，LD，MEMS，传感器等。
NXQ8000系列掩膜曝光机主要是用于光刻胶曝光。光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。
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第6年
