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北京京迈研材料科技有限公司
主营：靶材，金属靶材，陶瓷靶材
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科研实验***碳化硼靶材B4C靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
碳化硼（B4C），别名黑钻石，坚硬黑色有光泽晶体，具有密度低、强度大、高温稳定性以及化学稳定性好的特点；硬度比工业金刚石低，但比碳化硅高；溶于熔化的碱中，不溶于水和酸，是已知坚硬的三种材料之一（其他两种为金刚石、立方相氮化硼），用于坦克车的装甲、避弹衣和很多工业应用品中；碳化硼在核能发电场里它是很理想的中子吸收剂；碳化硼制造容易、成本低廉，因而使用更加广泛，在某些地方可以取代价格昂贵的金刚石、常见在磨削、研磨、钻孔等方面的应用。 产品参数 中文名碳化硼 分子式B4C 相对分子质量 55.26 沸点 大于3500℃ 熔点 2350℃ 密度 2.52g/cm3 支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！ 服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，***，售后无忧！ 产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装 适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。 加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库 陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！ 我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。 注意：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！ 建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。
温馨提示：以上是关于碳化硼靶材B4C靶材磁控溅射靶材的详细介绍，产品由北京京迈研材料科技有限公司为您提供，如果您对北京京迈研材料科技有限公司产品信息感兴趣可以联系供应商或者让供应商主动联系您 ，您也可以查看更多与其它相关的产品！
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第6年
