实验室真空蒸发镀膜设备-北京泰科诺

蒸发镀膜机—北京泰科诺科技有限公司

蒸发镀膜机技术参数 Thermal Evaporator Technical Parameters：

型号Model:                           ZHD300/ZHD400/ZHDS400

镀膜方式Coating Method:        电阻蒸发/多源蒸发

腔室结构 Chamber Structure:   玻璃钟罩/立式方形前开门/方箱式前后开门

腔室尺寸Chamber Size:            Φ300×H360mm/L400×W440×H450mm

加热温度 Baking Temp:            室温～300℃

旋转基片台 Rotating Substrate Holder:        Φ100mm/120mm×120mm

基片台升降 Substrate Holder Lifting:            无/手动调节升降高度0～80mm

膜厚不均匀性 Film Thickness Nonuniformity:   基片台Φ80mm范围内≤±5.0%

蒸发源Evaporation Source:     2组金属源/2~4组金属源、2~4有机源(可选)

控制方式Operation Method:       PLC

功率 Power:                         ≥3.2kW/≥8kW/≥10kW

其他选配 Other Opti***:        蒸发电源/膜厚仪/冷水机/等

产品特点 Product Features：

1. 工艺成熟，性能稳定，实验室真空蒸发镀膜设备，使用维护成本低；

2. 功能强大，兼容有机蒸发与无机蒸发，多元共蒸与分蒸；

3. 一体化设计，实验室真空蒸发镀膜设备***，占地面积小，可单独或与手套箱集成使用；

4. 适用范围：用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜等，也可用于生产线前期工艺试验；广泛用于钙钛矿太阳能电池、OPV有机太阳能电池、OLED薄膜等研究系统等等。

真空镀膜机知识分享：

蒸发镀膜和磁控溅射镀膜的区别？

真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。

真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直接沉淀在基片上形成薄膜。

离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶，使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面，形成所需要的薄膜。

真空蒸发镀膜***的是电阻加热法，其优点是加热源的结构简单，造价低廉，操作方便；缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热，电子束的动能变成热能，使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源，但由于大功率激光器的造价很高，目前只能在少数研究性实验室中使用。

溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态，常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子，离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电；三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电；射频溅射是利用射频辉光放电；磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。

实验室真空蒸发镀膜设备

购买电子束蒸发镀膜机你必须要注意的事项

工艺的***:不同工艺所用***是不一样的，统一称之为蒸发源，它可是靶头或者电子***等。好的蒸发源是需要经过长年不断得到镀膜数据进而改进完善出来的，不懂工艺的厂家很难做好蒸发源。如果哪个厂家说其机器设备不包工艺，一定别买。

实地考察，样品打样:购买设备前，拿样品去镀膜，检查镀制的膜层是不是可以达到自身要求，它的技术服务和售后服务是不是完善，结合上面所说的要点多咨询咨询，***货比三家。

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真空镀膜设备的选购要点

随着行业的发展，目前真空镀膜设备运用普遍，实验室真空蒸发镀膜设备生产厂，那么大家在选购真空镀膜设备时需要注意什么呢？

1、根据工艺要求选择不同规格和类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。

2、真空系统由机械泵、扩散泵、油增压泵、增扩泵、罗茨泵、埚轮分子泵等及与它们相匹配的各种气动、手动、电动阀门、管道等组成。    

3、炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。实验室真空蒸发镀膜设备

4、夹具运转形式有自转、公转及公转+自转方式，用户可以根据基片尺寸及形状提出对应的要求，转动的速度范围及转动精度：普通可调及变频调速等。

5、充气方式可选用质量流量计、浮子流量计 + 针阀及相应的充气阀门，实验室真空蒸发镀膜设备厂商，并可选择多路充气管路及相应流量参数。

6、根据工艺要求选择镀制方式及形式，如电阻蒸发（钨丝、钼舟、石墨舟）磁控源（同轴圆柱型磁控源、园柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等）以靶材材质及尺寸多弧源（Ф60，Ф80直径靶材，气动、电动的引弧等），真空测量可选择数字式智能真空计及其***的测量规管，及其它测量仪器，如自动压强控制仪等。膜厚测量可选用方块电阻测量仪，透过率计等。

7、根据设备使用特点，可选择手动、半自动、全自动或其组合的控制方式。

8、根据需烘烤的结构提出烘烤温度、材质以及所需配备相应仪表测量。

9、完善的报警系统，对真空室体、扩散泵断相、缺水、气压、电源负载的过压、过流等异常情况进行声光报警。

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