光呆板业界别称光掩模板、掩膜版,光罩,英文名字MASK或PHOTOMASK),材料:石英玻璃、金属铬和光感应胶,该商品是由石英玻璃或是碳酸钠夹层玻璃做为衬底,在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶。在塑料薄膜、塑胶或夹层玻璃化学反应原材料上制做各种各样作用图型并精i明确位,便于用以光致抗蚀剂镀层可选择性曝i光的这种构造,称之为光刻掩模板。
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为了避免掩模对要蒸发的衬底造成损坏,通常在掩模上设置保护膜,石英铬板,并且保护膜由有机材料制成。当保护膜接触要蒸发的基板时,保护膜对要蒸发的基板造成的损害小于掩模对要蒸发的基板造成的损害。
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什么叫掩膜***i先人们从物理学的视角讨论一下mask究竟是什么全过程。在半导体设备中,很多集成ic加工工艺流程选用光刻技术,用以这种流程的图型“胶片照片”称之为掩膜(也称之为“掩模”),其功效是:在硅片上选中的地区中对1个不全透明的图型模版遮住,进而下边的浸蚀或外扩散将只危害选中的地区之外的地区。图象掩膜两者之间相近,大面积苏打铬板,用选中的图象、图型或物块,对解决的图象(所有或部分)开展挡住,来操纵图象处理的地区或处理方式。-
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