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四氟化碳是不燃烧的无色、无味的压缩气体,充装于四氟化碳钢瓶中,饱和蒸汽压约压力2000 psig。四氟化碳是目前微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗,太阳能电池的生产,激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态,印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。由于四氟化碳的化学稳定性,四氟化碳可用于金属冶炼,例如:铜、不锈钢,碳钢、铝、蒙乃尔等;还可用于塑料行业;如:合成橡胶、氯丁橡胶、聚氨基甲酸乙酯。
用途
1:在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、 泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。 2:可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。对于硅和二氧化硅体系,采用CF4-H2反应离子刻蚀时,通过调节两种气体的比例,可以获得45:1的选择性,这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。 3:由于化学稳定性极强,CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。 4.:四氟化碳的溶氧性很好,因此被科学家用于超深度潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功,在275米到366米的深度内,小白鼠仍可安全脱险。
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