咨询电话：13146848685
北京创世威纳科技有限公司
主营：磁控溅射镀膜机,电子束/热阻蒸发机,ICP,RIE,IBE
咨询电话：13146848685
主营：磁控溅射镀膜机,电子束/热阻蒸发机,ICP,RIE,IBE
您好，欢迎莅临创世威纳，欢迎咨询...
| 女士： |
磁控溅射镀膜机的注意事项
1、保持机器内舱各部位的清洁；
2、关注真空度指标；
3、检查并记录抽真空的时间，如有延长，立刻检查造成的原因；
4、记录溅射功率和时间（一般溅射机的银靶设定功率为0.6千瓦，金靶的设定功率为0.75千瓦，磁控溅射镀膜机，铬的行走速率为9000pps），如有异常，立刻检查造成的原因；
5、根据镀出石英振子的散差，调整遮挡板的各部尺寸；
6、溅镀后的石英振子要用3M胶带检查其牢固度；
7、测试并记录镀好的石英振子主要指标，如：频率、电阻、DLD等；
8、将不良品挑出：电极错位、划伤、脏污、掉银等（工位上要有不良品示意图）。
以上就是为大家介绍的全部内容，希望对大家有所帮助。如果您想要了解更多磁控溅射镀膜设备机的知识，欢迎拨打图片上的热线联系我们。
磁控溅射镀膜机技术原理
真空磁控溅射镀膜技术是通过真空磁控溅射镀膜机实现的，镀膜机内由不同级别的真空泵抽气，在系统内营造出一个镀膜所需的真空环境，真空度要达到镀膜所需的本底真空，一般在（1~5）×10-8 Pa。在真空环境中向靶材（阴极）下充入工艺气体气（Ar），气在外加电场（由直流或交流电源产生）作用下发生电离生成离子（Ar+），磁控溅射镀膜机多少钱，同时在电场E的作用下，离子加速飞向阴极靶并以高能量轰击靶表面，使靶材产生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子（或分子）沉积在PET基片上形成薄膜。同时被溅射出的二次电子在阴极暗区被加速，在飞向基片的过程中，落入设定的正交电磁场的电子阱中，直接被磁场的洛伦兹力束缚，使其在磁场B的洛伦兹力作用下，磁控溅射镀膜机生产厂家，以旋轮线和螺旋线的复合形式在靶表面附近作回旋运动。电子e的运动被电磁场束缚在靠近靶表面的等离子区域内，使其到达阳极前的行程大大增长，大大增加碰撞电离几率，使得该区域内气体原子的离化率增加，轰击靶材的高能Ar+离子增多，从而实现了磁控溅射高速沉积的特点。在运用该机理开发磁控膜的过程中，要注意以下几个问题：①保证整体工艺中各个环节的可靠性。具体包括靶材质量、工艺气体纯度、原膜洁净程度、原膜质量等基础因素，这一系列因素会对镀膜产品的终质量产生影响。②选择合适的靶材。要建立的膜系是通过对阴极的前后顺序布置实现的。③控制好各环节的工艺性能及参数。如适合的本底真空度、靶材适用的溅射功率、工艺气体和反应气体用量与输入均匀性、膜层厚度等。总之，只有控制好以上各因素，才能够保证所开发的镀膜PET具有稳定的颜色、优异的性能和耐久性。
如需了解更多 磁控溅射镀膜机的相关信息，欢迎关注创世威纳网站或拨打图片上的热点电话，我司会为您提供***、周到的服务。
磁控溅射原理
溅射过程即为入射离子通过--系列碰撞进行能量和动量交换的过程。
电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与Ar原子发生碰撞，磁控溅射镀膜机价格，电离出大量的Ar离子和电子，电子飞向基片，在此过程中不断和Ar原子碰撞，产生更多的Ar离子和电子。Ar离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。
想了解更多关磁控溅射的相关资讯，请持续关注本公司。
温馨提示：以上是关于磁控溅射镀膜机价格-磁控溅射镀膜机-创世威纳(查看)的详细介绍，产品由北京创世威纳科技有限公司为您提供，如果您对北京创世威纳科技有限公司产品信息感兴趣可以联系供应商或者让供应商主动联系您 ，您也可以查看更多与电子/电工产品制造设备相关的产品！
免责声明：以上信息由会员自行提供，内容的真实性、准确性和合法性由发布会员负责，天助网对此不承担任何责任。天助网不涉及用户间因交易而产生的法律关系及法律纠纷， 纠纷由您自行协商解决。
风险提醒：本网站仅作为用户寻找交易对象，就货物和服务的交易进行协商，以及获取各类与贸易相关的服务信息的平台。为避免产生购买风险，建议您在购买相关产品前务必 确认供应商资质及产品质量。过低的价格、夸张的描述、私人银行账户等都有可能是虚假信息，请采购商谨慎对待，谨防欺诈，对于任何付款行为请您慎重抉择！如您遇到欺诈 等不诚信行为，请您立即与天助网联系，如查证属实，天助网会对该企业商铺做注销处理，但天助网不对您因此造成的损失承担责任！
联系：tousu@tz1288.com是处理侵权投诉的专用邮箱，在您的合法权益受到侵害时，欢迎您向该邮箱发送邮件，我们会在3个工作日内给您答复，感谢您对我们的关注与支持！
第7年
