半导体工艺真空主要用在蒸发,溅射,PECVD,真空干法刻蚀, 真空吸附,测试设备,真空清扫等等键合工序,半导体生产制造过程中容易产生以及有毒的物质气体,会对生产及人员安全造成威胁,因此,半导体水环真空泵应用时需要注意的几个安全事项: 1、定期清洗真空泵及其他附件、过滤、管道,避免超压:
半导体真空泵应用时,抽取介质过程中经过反应室与真空泵,其成分可能极为复杂,无油往复式真空泵,如SiH4与O2在泵口形成SiO2,往复式真空泵厂家,TiCl4水解会形成HCl;假设是油封式机械泵,这些气体物质还可能与泵油发生化反。这些变化假设形成颗粒、可凝物或者腐蚀性介质,就可能堵塞真空泵或管路系统,影响真空泵性能,造成压力上升或超压,往复式真空泵,一点中提到的危险性也更大。所以需要及时的清洗,并在必要的时候设置过滤设备。。
1、水环真空泵励磁回路接通电源对已预整定过的参数,包括磁通(励磁电流)限制值、失磁保护动作整定值、满磁电流整定值和弱磁控制曲线进行校验和 调整; 2、水环真空泵电势(或电压)调节闭环的开环模拟试验。模拟方式给出电枢端电压和电枢回路电流,对电势(电压)调节器输出限幅值、励磁电流及反馈 回路参数等作出整定;
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2bea水环式真空泵结构及特点:
2BEA系列水环真空泵及压缩机是我公司在长期科研的基础上,2BEA系列水环真空泵,自带气水分离器,设有多位置进排气口,立式往复式真空泵,泵盖上增设了排气阀检修窗盖,装配和维修更加方便。
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