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光掩膜一般也称光罩,是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版,宁波制版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形,并通过曝光将图形转印到产品基板上。光掩膜主要由两部分组成:基板和不透光材料。
作为半导体、液晶显示器制造过程中转移电路图形“底片”的高精密工具,光掩膜是半导体制程中非常关键的一环。
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制版(platemaking)是将原稿成印版的统称。有将铅活字排成活字版,制版厂家,以及用活字版打成纸型现浇铸成凸版和将图像经照像或电子分色获得底片,用底片晒制凸版、平版、凹版等一系列的制版方法。在制版中影响印版质量的因素,主要有显影液浓度、显影温度和显影时间以及显影液的循环搅拌情况、显影液的疲劳程度等。
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光掩膜除了应用于芯片制造外,还广泛的应用与像LCD,PCB等方面。常见的光掩膜的种类有四种,铬版(chrome)、干版,凸版、液体凸版。主要分两个组成部分,基板和不透光材料。基板通常是高纯度,制版哪家好,低反射率,低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小,虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。
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