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沈阳鹏程真空技术有限责任公司

主营:电阻热蒸发镀膜,磁控溅射,激光脉冲沉积,电子束

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脉冲激光沉积设备-脉冲激光沉积设备公司-沈阳鹏程(推荐商家)

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脉冲激光沉积选件介绍

激光分子束外延(Laser MBE )

激光MBE 是普遍采用的术语,该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法,高真空下的PLD 与在线工艺监测的反射高能电子衍射(RHEED)的联合应用,用户提供了类似于MBE 的薄膜生长的单分子水平控制。

正确的设计是成功使用RHEED 和PLD 的重要因数

RHEED 通常在高真空(<10-6 torr)环境下使用。然而,因为在某些特殊情况下,PLD 采用较高的压力,差动抽气是必要的,脉冲激光沉积设备,

维持RHEED 的工作压力,同时保持500 mTorr 的PLD 工艺压力。同时,设计完整的系统消除磁场对电子束的影响是至关重要的。Neocera 的激光MBE 系统可以为用户提供在压力达到500 mTorr 时所需的单分子层控制。

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脉冲激光沉积设备介绍

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是比较理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件,例如基片加热装置、原位监测工具。此外,脉冲激光沉积设备厂家,BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层,例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。

脉冲激光沉积介绍

脉冲激光沉积,是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面。这样,脉冲激光沉积设备报价,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成一系列具有功能的纳米结构和纳米颗粒。

另外,PLD 是一种“数字”技术,在纳米尺度上进行工艺控制(A°/pulse)。

沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首 ,服务至上为宗旨。公司生产、销售脉冲激光沉积,公司拥有强大的销售团队和经营理念。想要了解更多信息,赶快拨打图片上的热线电话!

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