VIGON® US 是特别设计应用于超声波式,底部喷流式和离心式清洗设备中的水基清洗液。基于ZESTRON公司的 MPC®微相清洗技术,VIGON® US可以清除电子组装件,倒装芯片和CMOS器件上的各种助焊剂残留物。
清洗范围:低固助焊剂残留物、松香类助焊剂残留物、水溶性助焊剂残留物、焊锡膏(焊前)、SMT胶水或导电胶水。 VIGON® US工艺窗口很宽,可以轻松去除各种锡膏和助焊剂残留物。 VIGON® US无闪点,应用中不需要额外的防爆措施。 VIGON® US特别设计用于浸入式清洗设备。 VIGON® US的配方中不含有表面活性剂成分, 因此易于漂洗,不会在被清洗件表面有残留物,确保清洗后的离子污染度很低。 VIGON® US的高清洗负载能力,保证了其较长的使用寿命。 VIGON® US特别适用于针对细间距和低底部间隙元器件的清洗应用。 VIGON® US可以有效清除倒装芯片和CMOS器件上的粘性助焊剂残留,确保后续的底部填充工艺不会有气泡。 VIGON® US可以有效清除CMOS成像器件上的颗粒物,增强图形分辨效果及降低像素点缺失的缺陷。 气味淡。
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