光增感剂
是引发助剂,能吸收光能并转移给光引发剂,或本身不吸收光能但协同参与光化学反应,起到提高引发效率的作用。
光致产酸剂
吸收光能生成酸性物质并使曝光区域发生酸解反应,用于化学增幅型光刻胶。
助剂
根据不同的用途添加的颜料、固化剂、分散剂等调节性能的添加剂。
主要技术参数
分辨率(resolution)
是指光刻胶可再现图形的小尺寸。一般用关键尺寸来(CD,CriticalDimension)衡量分辨率。
问题回馈:
1.我们是LED制造商,麻烦推荐几款可以用于离子蚀刻和Lift-off工艺的光刻胶。
A 据我所知,Futurrex
有几款胶很,NR7-1500P
NR7-3000P是专门为离子蚀刻
设计的,NR9-3000PY可以用于Lift-off上的应用。
2.请问有没有可以替代goodpr1518,Micropure去胶液和goodpr显影液的产品?
A 美国光刻胶,Futurrex
正胶PR1-2000A
, 去胶液RR4,和显影液RD6可以解决以上问题。
3.你们是否有可以替代Shipley
S1805的用于DVD的应用产品?
A 我们建议使用Futurrex
PR1-500A , 它有几个优点:比较好的解析度,比较好的线宽控制,
反射比较少,不需要HMDS,RIE后去除容易等~
4. 求助,耐高温的光阻是那一种?
A Futurrex, NR7 serious(负光阻)Orpr1 serious(正光阻),再经过HMCTS
silyiation process,可以达到耐高温200度,PSPI透明polyimide,可耐高温250度以上。
5.厚膜光阻在镀金应用上,用哪一种比较理想?
A Futurrex , NR4-8000P比干膜,和其他市面上的湿膜更加适合,和理想。
6.请教LIFT-OFF制程哪一种光阻适合?
A 可以考虑使用Futurrex
,正型光阻PR1,负型光阻用NR1&NR7,它们都可以耐高温180度,完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。
7.请问,NR9 3000P光刻胶多少钱,那位知道,RIE
Mask,用什么光阻比较好?
A 正型光阻用PR1系列,负型光阻使用NR5,两种都可以耐高温180度。
8.一般厚膜制程中,哪一种光阻适合?
A NR9-8000P有很高的深宽比(超过4:1),一般厚膜以及,MEMS产品的高需求。
9.在DEEP
RIE和MASK 可以使用NRP9-8000P吗?
A 建议不使用,NR9 3000P光刻胶,因为使用NR5-8000更加理想和适合。
10.我们是OLED,我们有一种制程上需要一层SPACER,那种光阻适合?
A 有一种胶很适合,美国Futurrex
生产的NR1-3000PY
and和
NR1-6000PY,都适合在OLED制程中做spacers
五、曝光
在这一步中,将使用特定波长的光对覆盖衬底的光刻胶进行选择性地照射。光刻胶中的感光剂会发生光化学反应,从而使正光刻胶被照射区域(感光区域)、负光刻胶未被照射的区域(非感光区)化学成分发生变化。这些化学成分发生变化的区域,在下一步的能够溶解于特定的显影液中。
在接受光照后,正性光刻胶中的感光剂DQ会发生光化学反应,变为乙烯酮,并进一步水解为茚并羧酸(Indene-Carboxylic-Acid, CA),羧酸在碱性溶剂中的溶解度比未感光部分的光刻胶高出约100倍,NR9 3000P光刻胶哪家好,产生的羧酸同时还会促进酚醛树脂的溶解。利用感光与未感光光刻胶对碱性溶剂的不同溶解度,就可以进行掩膜图形的转移。
曝光方法:
a、接触式曝光(Contact Printing)掩膜板直接与光刻胶层接触。
b、接近式曝光(Proximity Printing)掩膜板与光刻胶层的略微分开,大约为10~50μm。
c、投影式曝光(Projection Printing)。在掩膜板与光刻胶之间使用透镜聚集光实现曝光。
d、步进式曝光(Stepper)
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