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苏州晶淼半导体设备有限公司
主营：半导体清洗机,半导体清洗设备,半导体湿法设备
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通用超声波清洗机 超声波清洗机的结构通常有超声电源和清洗器合为一体或分隔隔离分散结构两种形式，通常小功率(200W以下)清洗机用一体式结构，而大功率清洗机采用分体式结构。
超声波清洗机分体式结构由三个主要部分构成 (1)清洗缸； (2)超声波制作生器； (3)超声波换能器；
超声波清洗设施通常可分为通用机型。
楷模的软磁器件超声波清洗设施介绍：被清洗物件从进料口可传动的不锈钢网带送人超声波清洗槽清洗，再经喷淋、烘干等工序后出料，晶圆酸洗机，实现被清洗物件可直接包装入库。
1、民用清洗领域
40岁以上的人可能还会记得20世纪80年代以前．每个人每月凭票可以购买两块“青松”或“灯塔”牌肥皂．那几乎就是你每月所有的清洗剂了．洗衣服要用它。洗头要用它，洗澡也要用到它．改革开放以来，晶圆清洗台，中国的民用清洗领域发生了翻天覆地的变化．从早期的“威娜宝”到今天的“海飞丝”，“飘柔”，各种各样的洗发香波琳琅满目，晶圆腐蚀，各种洗涤用品广告充斥着电视的黄金频段，现在可能已经很少有人再用过去那种肥皂洗头了．
硅片清洗 化学清洗
化学清洗是为了除去原子、离子不可见的污染，方法较多，有溶剂萃取、酸洗（硫酸、·王水、各种混合酸等）和等离子体法等。其中体系清洗方法效果好，环境污染小。一般方法是将硅片先用成分比为H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的强氧化性，将有机物分解而除去；用超纯水冲洗后，再用成分比为H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1或5:1:1或7:2:1的碱性清洗液清洗，苏州晶圆，由于H2O2的氧化作用和NH4OH的络合作用，许多金属离子形成稳定的可溶性络合物而溶于水；然后使用成分比为H2O:H2O2:HCL=7:2:1或5:2:1的酸性清洗液，由于H2O2的氧化作用和盐酸的溶解，以及氯离子的络合性，许多金属生成溶于水的络离子，从而达到清洗的目的。
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第10年
