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苏州晶淼半导体设备有限公司
主营：半导体清洗机,半导体清洗设备,半导体湿法设备
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主要清洗参数为:
1、材质:槽体为全不锈钢制作，耐酸耐碱，外形美观大方。
2、机型:可根据客户要求加工定制。
3、功率、频率:可调，采用超声波发生器，平顶山湿制程，能量转换率高。
4、温控:常温0-110℃可调。
5、支架可根据要求和实际需要定制。
主要清洗参数为：1、材质：槽体为全不锈钢制作，耐酸耐碱，外形美观大方。2、机型：可根据客户要求加工定制。3、功率、频率：可调，湿制程腐蚀台，采用超声波发生器，湿制程清洗设备，能量转换率高。4、温控：常温0-110℃可调。5、支架可根据要求和实际需要定制。
清洗机
我们为什么要用到刷洗机来进行物件的清洗呢？那是因为常见的手工清洗方法对异型物件以及物件隐蔽处无疑无法达到要求，即使是蒸汽清洗和高压水射流清洗也无法满足对清洁度较高的需求，湿制程腐蚀机，但是用刷洗机清洗对物件还能达到杀灭xi菌、溶解有机污染物、防止过腐蚀等，因此，刷洗机被日益广泛应用于各行各业：
（1）机械行业：防锈油脂的去除；量具的清洗；机械零部件的除油除锈；发动机、化油器及汽车零件的清洗；过滤器、滤网的疏通清洗等。
（2）表面处理行业：电镀前的除油除锈；离子镀前清洗；磷化处理；清除积炭；清除氧化皮；清除抛光膏；金属工件表面活化处理等。
（3）仪器仪表行业：精密零件的高清洁度装配前的清洁刷洗等。
（4）电子行业：印刷线路板除松香、焊斑；高压触点等机械电子零件的清洗等。
刻蚀机主要分类：电容电感两种方式，优势互补刻蚀按照被刻蚀材料划分，主要分为硅刻蚀、介质刻蚀以及金属刻蚀。不同的刻蚀材质其所使用的的刻蚀机差距较大。干法刻蚀的刻蚀机的等离子体生成方式包括CCP（电容耦合）以及ICP（电感耦合）。而由于不同方式技术特点的不同，他们在下游擅长的应用领域上也有区分。CCP技术能量较高、但可调节性差，适合刻蚀较硬的介质材料（包括金属）；ICP能量低但可控性强，适合刻蚀单晶硅、多晶硅等硬度不高或较薄的材料。
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