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在制造环境中,人们所关注的微粒尺寸一般都比较大,它们不会像烟雾那样散开,而会掉到组件的表面上,所以与在半导体洁净室中的空气控制方案完全不同。另外,人们关注的范围也越来越窄,需要控制的污染物的尺寸大的直径在80至120μm之间,小的在40至60之间,例如金属、类污染物。这些用户的目标与常规洁净室用户的没有什么两样:防止产品出现用肉眼看得到的缺陷和功能性缺陷。
洁净室要达到洁净等级,必须有综合措施,其中包括工艺布置、建筑平面、建筑构造、建筑装修、人员和物料净化、空气洁净措施、维护管理等。其中空气洁净措施是实现洁净等级的根本保证。就空气洁净而言,主要有以下几项具体措施 :
(1) 对洁净室的送风必须是有很高洁净度的空气。因此,必须选用效或亚过滤器(洁净级别低时)作为终端过滤器,对进入洁净室的空气,进行后一级过滤。为保护终端过滤器和延长其寿命,必须使空气先经中效过滤器进行过滤。
(2) 根据洁净室的等级,合理选择洁净室的气流分布流型,在工作区应避免涡流区;尽量使送入房间的洁净度高的空气直接到达工作区;气流的流动有利于洁净室内的微粒从回风口排走。
(3) 有足够的风量,既为了稀释空气的含尘浓度,又保证有稳定的气流流型
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