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广东省科学院半导体研究所
主营：深硅刻蚀,真空镀膜,磁控溅射,材料刻蚀,紫外光刻
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真空镀膜服务——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，铁金属真空镀膜服务，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
同传统电磁式和可控硅技术制作的电弧电源相比较，IGZO真空镀膜服务，高频逆变电弧电源主要具有以下特点：
1. 体积缩小，仅是旧式电源的几分之一；相应的电源重量也 仅是传统电源的几分之一到十几分之一。
2.电源效率明显提高，比旧式电源的效率大约提高20%∽30%左右。
3.操作轻便，电流调节精度较高，天河真空镀膜服务，稳流性能好，氧化镍真空镀膜服务，有利于控制膜厚及保证膜厚的重复性。
4. 采用高频逆变方式的电弧电源纹波较小，加上其响应速度远远高于旧式电源，在相同弧源和工作条件下，使用高频逆变电弧电源有利于提高电弧的稳定性，减少灭弧次数。
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PVD技术出现于二十世纪七十年代末，真空镀膜机镀膜技术制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。初在高速具领域的成功应用引起了制造业的高度重视，人们在开发、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。
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离子镀膜技术广泛应用于装饰真空镀膜机，硬质涂层真空镀膜机，连续式真空镀膜机，汽车零部件真空镀膜机等等，因其居于沉积速率快，摩擦均匀性好，膜层致密好，绕射性好等优点，被市场青睐。
离子镀是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质离子化，在气体离子或蒸发物质离子轰击作用下，把蒸发物质或其反应物蒸镀在工件上。其中包括磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀（空心阴极蒸镀法）、多弧离子镀（阴极电弧离子镀）等。离子镀把辉光放电、等离子技术与真空蒸镀技术结合在一起，不仅明显地提高镀层的各种性能，而且大大扩充了镀膜技术的应用范围。离子镀除兼有真空溅射的优点外 ，还具有膜层的附着力强、绕射性好、可镀材料广泛等优点。
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第4年
