来自低压灯185nm光被空气中的氧吸收而产生臭氧
254nm光被臭氧吸收并被活化(=氧化力高、激发状)
生成氧原子。由此切断有机物的结合,将有机物变成水和二氧化碳
氧化分解·挥发。
发射172nm光的准分子灯时可以直接生成O
由准分子灯生成活性氧种仅在灯表面附近发生氧化反应
172nm波长光被氧强烈吸收,因此在大气中照射距离变得极短
大气中的有效照射距离为0~3mm,M-90物镜镜筒,临界照射距离为8mm。
为了比较低压/准分子、两个灯而表示能量值的话
647:696(kJ/mol),准分子灯的能量高约7.6%
(92.96:100以上100÷92.96),低压灯在大气中的有效照射距离为0~20mm
因为临界照射距离为200mm,所以从照射距离等考虑便利性,低压灯
应用范围广(=准分子密接照射至3mm),而准分子产生的172nm线的能量
理论值比185nm高约7.6%,因此在需要高能量的特殊用途中
选择“准分子灯有效”。
另外,好像有其他公司的资料显示,清洗速度比低压灯快
这在比较基准的照射距离的设定上有错误,将实验中的照射距离
与准分子=3mm、低压灯=30mm相比,“准分子占优势”
用相差10倍的照射距离进行比较等,物镜镜筒,没有比较的意义*。
接触角的变化在其适应性有效距离上两者没有能力差。
倒不如说,MF-1(A)物镜镜筒,在光清洗效果中,与5mm距离低压灯、1mm距离
在(从氮室合成石英玻璃面)的准分子中,低压灯
有稍微接触角变低(=清洗效果高)的结果。
需要该比较资料(概略)的人请在环境事业部门
现在从准分子灯得到的好处是,用光清洗UV灯
?NOWDATA紫外线照射UVLED装置物镜镜筒UV LED照射装置
UV LED MINI LIGHT UNIT
比名片更小的超小型尺寸,铝框体,实现散热性和超轻量。
我们准备了365nm、385nm、395nm三种波长。
是用高功率紫外线照射,瞬间进行油墨·涂层·粘接剂等的硬化的光源装置。
有能简单地使用的控制器内脏的一体型,线设备用的头分离类型
4.基于单功能化的简单操作
根据必要限度的装备,简单的操作能使用。
功能列表
?照射计时器设定:0.1~99.9秒
?照射模式选择:计时器照射/手动照射
?照射功率选择:音量设定/外部0~5V模拟设定
?外部手动照射开始/停止输入(手动照射选择时)
?外部计时器照射开始/解除输入(选择计时器照射时)
?紧急停止联锁输入
?照射中输出
?级联输出
DUV/EUV)光刻
光刻技术是用激光将图案等烧成技术,用于半导体或液晶面板的基板制造
被使用,那个UV照射被使用的是DUV:波长200nm左右的紫外线。
用密的东西能蚀刻数十nm~百数十nm左右的图形。
另外,作为下一代的有希望的技术,被称为Extreme Ultraviolet(简称EUV)的13.5nm等
使用波长极短的“超紫外线”的光刻(也有被称为极紫外光光刻:ExtremeUltraviolet Lithography:EUVL的情况)中,DUV(远紫外线)光刻的
因为使用了20分之1左右波长的光线,所以可以使图案更加微细。
*装载这样精密电路的底座的清洗,用以往的湿式清洗是来不及的
同时使用UV光清洗。
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