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商丘金常来金属制品有限公司
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磁控溅射是70年代在阴极溅射的基础上发展起来的一种新型溅射镀膜法，由于它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的致命弱点，因此获得了迅速的发展和广泛的应用.
1. 磁控溅射:
离子轰击靶材将靶面原子击出的现象称为溅射.溅射产生的原子沉积在基体(工件)表面即实现溅射镀膜.
磁控溅射的基本原理:
磁控溅射是在溅射区加了与电场方向垂直的磁场，处于正交电场区E和磁场B中的电子的运动方程，
感应加热式蒸发镀膜
利用高频电磁场感应加热，金属镀钛加工服务，使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。
优点蒸发速率大，项城镀钛加工服务，可比电阻蒸发源大10倍左右 蒸发源的温度稳定，不易产生飞溅现象坩埚温度较低，坩埚材料对膜导污染较少缺点蒸发装置必须屏蔽造价高、设备复杂
在真空中，高能粒子轰击材料表面，使其原子获得足够的能量而逸出表面，处理镀钛加工服务，到达衬底凝结成膜的技术。
与真发镀膜相比，溅射镀膜适用于所有（包括高熔点）材料，具有附着力强、成分可控、易于规模化生产等优点。
但其工作气压低于蒸发镀膜，因此膜层的含气量和孔隙率大于蒸发镀膜。
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第5年
