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钢研纳克江苏检测技术研究院有限公司
主营：直读光谱仪 ICP光谱仪 ICPMS 碳硫分析仪 氧氮分析仪
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钢研纳克电感耦合等离子体质谱仪PlasmaMS 300 仪器特点
1. 石英、耐氢1氟酸等丰富多样的进样系统；分立式矩管，便于拆卸维护；可选配半导体制冷进样装置和自动进样系统。
2. 27.12MHz全固态RF发生器，实现极高的稳定性；自动匹配速度快，保证了点火成功率
3. 双锥接口，可在真空状态下直接拆卸维护
4. 大范围准确可调的三维平台，ICP-MS质谱仪厂家，实现矩管全自动定位和校准
5. 双离轴离子传输（偏转）系统，去除不带电粒子，保证低噪声和高灵敏度
6. He气碰撞池匹配性能高质量流量控制器，有效去除多离子干扰
7. 高通量的长四极杆，质量范围2-265amu，分辨率<0.8amu；应用的DDS技术，实现自动频率匹配，保证离子有效筛选
8. 双模式检测器，脉冲计数和模拟计数检测，高达9个数量级线性范围
9.两只独立分子泵组合而成的性能高双涡轮分子泵真空系统和全自动监控系统，确保稳定性和灵敏度
10. 无处不在的屏蔽处理，保护实验人员安全和仪器稳定
11. 通过多项可靠性实验的考验，保证仪器运行和稳定
12. 人性化的工作软件
PlasmaMS 300 钢研纳克
中文软件界面，符合中国人操作习惯，用户灵活保存检测方法
全方面的状态监控输出，错误主动提示，问题一目了然，极大方便日常维护
带有LIMS接口，满足第三方实验室的需求
这些干扰要有效识别和消除 ICP-MS 质谱仪中的干扰，可以采取以下一些方法
干扰校正方程：通过建立干扰校正方程，利用已知的干扰元素和目标元素的关系，对干扰进行校正。
内标法：使用内标元素来监测和校正信号的变化，以补偿基体效应和其他干扰。
碰撞/反应池技术：利用碰撞/反应池来去除或降低多原子离子、分子离子等干扰。
选择合适的质量数：避免选择受到严重干扰的质量数，或者采用高分辨率质谱仪来区分干扰和目标离子。
优化仪器参数：调整射频功率、离子源气体流量等参数，以减少干扰的影响。
样品前处理：适当的样品前处理方法可以去除干扰物质，如稀释、萃取、净化等。
同位素比值测量：通过测量同位素比值，可以消除一些干扰的影响，并提供的分析结果。
质量筛选：利用质量筛选技术，只监测特定质量数范围内的离子，减少干扰的干扰。
数据处理方法：采用合适的数据处理软件和算法，如背景扣除、平滑、校正等，来校正干扰。
标准加入法：通过添加已知浓度的标准物质到样品中，校正基体效应和干扰。
识别和消除干扰需要综合考虑多种方法，并根据具体的分析需求和样品特点选择合适的策略。同时，定期进行质量控制和方法验证也是确保干扰得到有效校正的重要步骤。
钢研纳克国产ICP-MS PlasmaMS 300
优势1——的四极杆电源驱动技术
DDS变频技术
自动频率匹配调谐，无需手动调电容，更安全
没有机械电容部件，拥有的稳定性、抗震动，无需经常校准质量轴
：《 一种用于四级杆质谱仪的射频电源》201610006009.2
PlasmaMS 300 优势2——的真空控制系统
的缓冲技术，机械泵间断运行，仪器待机功耗极低
解决高真空腔体被机械泵油气污染问题，保证仪器长时间性能稳定
受保护《一种电磁阀缓冲、无返油涡轮分子泵抽真空系统》ZL2017 20926451.7
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第6年
