真空镀膜的方法材料:
(2)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面,Parylene涂层,凝结而成薄膜。
(3)化学气相沉积:通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物,获得沉积薄膜的过程。
光学镀膜方法材料
(1)氟化镁:无色四方晶系粉末,纯度高,用其制备光学镀膜可提高透过率,金属Parylene涂层,不出崩点。
(2)二氧化硅:无色透明晶体,熔点高,硬度大,化学稳定性好。纯度高,用其制备高质量Si02镀膜,蒸发状态好,不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。
请问PVD镀膜能否代替化学电镀?
在现阶段,塑料Parylene涂层,PVD镀膜是不能取代化学电镀的,并且除了在不锈钢材料表面可直接进行PVD镀膜外,在很多其他材料(如锌合金、铜、铁等)的工件上进行PVD镀膜前,硅胶Parylene涂层,都需要先对它们进行化学电镀Cr(铬)。PVD镀膜主要应用在一些比较的五金制品上,对那些价格较低的五金制品通常也只是进行化学电镀而不做PVD镀膜。
请问什么是PVD?
PVD是英文Physical Vapor Deition的缩写,中文意思是“物理气相沉积”,是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
请问PVD镀膜的具体原理是什么?
离子镀膜(PVD镀膜)技术,其原理是在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离,在电场的作用下,使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。
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