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北京科创鼎新真空技术有限公司
主营：氦检漏设备,氦质谱检漏仪,LNG抽真空设备
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空调检漏设备
真空系统检漏中不论是采用哪种气泡检漏法，应用中需要注意：
1、示漏气体的种类与压力会影响检测灵敏度。
2、充入气体的压力还要考虑被检件的机械强度。
3、被检件检测前需要进行充分的清洁，压缩机氦检漏仪多少钱，同时要在充好气后再放入液体中，高压开关氦检漏仪多少钱，防止堵塞漏孔。
4、区分虚漏与真漏，被检件放入液体中，其表面的吸附气体可能形成气泡，需要与漏孔形成的气泡加以区分，须将这些气泡抹掉后再进行观察。
5、观察时需要保证光线充足，液体清澈透明（皂膜法时尤其要注意皂液的稀稠度，天津氦检漏仪多少钱，过稀易流动滴落导致漏检，过稠易堵塞透明度差或形成气泡造成误检），观察背景要暗；同时被检件要稳，距离水面要近，并保证水面平静。
真空系统检漏过程中发现漏孔要及时标记，并复查确认进行焊补，如果采用氢气作为示漏气体，要特别注意安全。
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半导体设备及材料需要检漏原因
1、半导体设备要求高真空，比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备。出现泄漏就会导致高真空达不到或需要大量的时间，耗时耗力；
2、在高真空环境洁净度高、水蒸气很少。一旦出现泄漏周围环境中的灰尘和悬浮颗粒或尘埃就会对晶元造成污染，对半导体的特性改变并破坏其性能，因此在半导体器件生产过程中必须进行氦质谱检漏；
3、一些半导体设备要用到有毒或有腐蚀性的特殊气体，经过氦质谱检漏后，在低漏率真空条件下，这些气体不易外泄，设备能及时抽走未反应气体和气态反应产物，保障工作人员安全和大气环境。
4、芯片封装，一旦出现泄漏，芯片就会失效。
氦气检漏设备主要技术指标
实际使用氦气检漏设备时，其较小可检出泄漏率为5×10-13Pa·m3 / s； 泄漏率显示的范围为1×10-3—1×10-13Pa·m3 / s。; 启动时间保持在小于等于3min的范围内； 响应时间小于或等于1。0s; 检漏口较大压力：1000Pa； 电源需要220v，50Hz，单相，10A。
使用氦气检漏设备时，请注意其机械泵的抽速为4L / S； 工作环境要求为5-40℃； 应注意相对湿度必须小于或等于80％; 尺寸：600（W）×550（D）×1000（H）; 通常重量将保持在65kg。 关于氦气检漏设备，应注意其配备了标准氦气检漏装置，包括更详细的校准报告。
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第5年
