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商丘金常来金属制品有限公司
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射频溅射
采用射频电源代替直流电源，在靶和衬底间施加高频电压，溅射时，靶极会产生自偏压效应（即靶极会自动处于负电位状态），使绝缘靶的溅射得到维持。常用的频率约为13.56兆赫。
优点可以溅射所有材料，包括导体和绝缘体溅射可大规模生产
磁控溅射
磁控溅射通过在靶阴极表面引入正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面，真空镀钛多少钱，成螺旋状运行来增强电离效率，增加离子密度和能量以增加溅射率。电源方面可同时配备直流和射频两种。
PVD是英文Physical VaporDeition（物理气相沉积）的缩写，睢县真空镀钛，是指在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术，在基材上沉积形成不同颜色和质感的薄膜。PVD膜层赋予产品表面金属质感和丰富的颜色，并改善耐磨、耐腐蚀性，延长寿命。已经广泛应用于表壳、表带、手机壳、建筑五金、模具刀具等产品。
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第5年
