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微弧氧化电源-日照微弧氧化工艺-小型微弧氧化电源价格

询盘留言 |投诉|申领|删除 产品编号:580973617                    更新时间:2024-06-30
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微弧氧化膜的优势

微弧氧化膜与普通阳极氧化膜相比, 这种膜的空隙率大大降低,从而使耐蚀性和耐磨性有了较大提高。目前,小型微弧氧化电源价格,微弧氧化技术主要应用于Al、Mg、Ti 等有色金属或其合金的表面处理中。镁合金微弧氧化技术所形成的氧化膜主要由MgO 和MgAl2 O4 尖晶石相组成,微弧氧化电源监控,总膜厚可达100 Lm以上, 具有明显的三层结构: 外部的疏松层、中间的致密层和内部的结合层。

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微弧氧化技术的特点

微弧氧化技术的应用越来越多,有多方面的优势,下面咱们一起了解一下。

1.微弧氧化技术大幅度地提高了材料的表面硬度,显微硬度在HV 800~2000,高可达HV 3000,可与硬质合金相媲美,大大超过热处理后的高碳钢、高合金钢和高速工具钢的硬度。

2.有良好的绝缘性能,绝缘电阻可达100MΩ。

3.基体原位生长氧化膜,氧化膜与基体属冶金结合,进口微弧氧化电源,结合牢固,氧化膜致密均匀。

4.溶液为环保型,微弧氧化电源,工艺过程中无任何污染,属环保型表面处理技术。

微弧氧化技术特点

(1)氧化膜具有陶瓷结构特征。

(2)原位生长。

(3)氧化膜均匀增厚。

(4)无污染:无环保限制元素加入,基本无废水排放。

制备工艺简单。

(5)表面硬度高,显微硬度在400至1500HV;

(6)耐磨损性能与硬质合金相当;

(7)耐腐蚀性能:盐雾试验铝合金1000-2000小时 ;镁

合金经封孔后耐盐雾可达1000小时以上。

(8)耐热性能:300℃水中淬火35次未见变化,1300℃

冲击5次不脱落、不龟裂。

(9)绝缘性能:膜厚不同,表面电阻达  109-12Ω

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