耗材
硅片
硅片没有特殊要求,单面抛光即可。制备SU8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。
光刻掩膜板
光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask Reticle),简称掩膜版,是制备SU8模具光刻工艺所使用的图形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形,通过曝光过程将微结构图形信息转移到SU8光刻胶涂层上,实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版,SU8光刻机价格,一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。
耗材
光刻掩膜板
菲林掩膜板适用于制备线条宽度较大的结构,通常在20微米以上。这种掩膜板制备简单,适合制备相对宽大和较粗糙的图案。然而,由于其分辨率有限,无锡SU8光刻机,无法满足制备细致微结构的需求。因此,对于需要制备线条宽度大于20微米的简单结构,菲林掩膜板是一个合适的选择。
玻璃掩膜板适用于制备线条宽度小于20微米的精细结构,以及需要多层对准的情况。玻璃掩膜板的制备工艺更加复杂,但由于其高分辨率,能够实现更细致、更精que的微结构。特别是在需要制备复杂多层结构且对准精度要求较高的情况下,玻璃掩膜板具有明显优势。
在选择掩膜板类型时,应根据所需制备的图案特性、线条宽度以及对制备精度和复杂度的要求进行权衡。菲林掩膜板适用于相对简单的结构,而玻璃掩膜板则更适合制备更细致和复杂的微结构。综合考虑制备目标和技术要求,SU8光刻机,选择适当的掩膜板类型将有助于确保制备过程的成功和效率。
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热板
温度:0~300℃温度稳定性:±1℃功率:850W台面大小:200x200mm
公司团队拥有丰富的经验和技术积累,持续将专ye知识与创新思维相结合,为客户提供高品pin质的解决方案。我们将始终坚持以客户为中心,不断挑战自我,不断追求卓yue,通过专ye、创新和合作,为客户创造更大的价值,共同kai创微流控领域的美好未来。
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