数显测厚规(千分款)
测量匀胶厚度量程:0~10mm
精度:0.001mm
公差:≤±0.005mm
顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业,我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。不断追求卓yue,通过专ye、创新和合作,云南SU8光刻机,为客户创造更大的价值,共同kai创微流控领域的美好未来。
耗材
光刻掩膜板
菲林掩膜板适用于制备线条宽度较大的结构,通常在20微米以上。这种掩膜板制备简单,适合制备相对宽大和较粗糙的图案。然而,由于其分辨率有限,无法满足制备细致微结构的需求。因此,对于需要制备线条宽度大于20微米的简单结构,菲林掩膜板是一个合适的选择。
玻璃掩膜板适用于制备线条宽度小于20微米的精细结构,以及需要多层对准的情况。玻璃掩膜板的制备工艺更加复杂,但由于其高分辨率,能够实现更细致、更精que的微结构。特别是在需要制备复杂多层结构且对准精度要求较高的情况下,玻璃掩膜板具有明显优势。
在选择掩膜板类型时,应根据所需制备的图案特性、线条宽度以及对制备精度和复杂度的要求进行权衡。菲林掩膜板适用于相对简单的结构,而玻璃掩膜板则更适合制备更细致和复杂的微结构。综合考虑制备目标和技术要求,选择适当的掩膜板类型将有助于确保制备过程的成功和效率。
顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业,坚持以客户为中心,不断挑战自我,SU8光刻机公司,不断追求zhuo越,通过专ye、创新和合作,为客户创造更大的价值,共同kai创微流控领域的美好未来
SU8模具制备流程
1.后烘
将曝光后的硅片放置在热板上,进行后曝光烘烤,SU8光刻机报价,以确保光刻胶的交联反应完成。(举例说明:目标胶厚度50um,设置温度65℃,烘烤7min,然后温度95℃,烘烤3min)
2.显影
将硅片放入显影剂中,使未曝光部分的光刻胶溶解,SU8光刻机企业,形成模具的图案。(显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整,此处显影时间20min)
3.清洗
将显影后的硅片用异丙chun溶剂进行清洗,去除多余的光刻胶。
4.检查
使用显微镜检查制备的SU-8模具,测试观察制备的微结构尺寸,确认图案的清晰度和质量。
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