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顶旭（苏州）微控技术有限公司
主营：微流控芯片定制，微流控芯片加工设备，微流控仪器，表面修饰
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桌面光刻机
曝光光源：紫外LED光源波长：365nm;曝光面积：4英寸、6英寸可选；曝光方式：单面接触式定时曝光；曝光分辨率：2um；曝光强度：20~200mW/cm2可调；曝光不均匀性：≤5%；光源平行性：≤2°；光源寿命：≥20000h；电源输入：AC220V±10V，50HZ功率：250W重量：25kg外形尺寸：382（长）*371（宽）*435（高）工作环境：温度0℃-40 ℃，微流控光刻机企业，相对湿度＜80 %
匀胶机
调速范围和时间：I档：50~10000转/分，时间0~999s
II档：50~10000转/分，时间0~999s适用：直径5~100mm硅片及其他材料匀胶转速稳定性：±1％胶的均匀性：±2％电极功率：40W，单相110~240V真空泵抽气速率：＞60L/min
顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。
SU8模具制备流程
1.备片
从化学品存放区取出清洁的硅片（确保硅片表面无尘）。
2.匀胶
1）打开匀胶机，将硅片放置在匀胶机托盘上，打开真空开关，山东微流控光刻机，确保硅片固定在托盘上不动；
2）将SU8光刻胶滴在硅片中间，微流控光刻机怎么样，根据光刻胶的厚度和制备要求设置匀胶机转速和时间。（举例说明：目标胶厚度50um，光刻胶型号：SU8-2075，1段500转8s，2段1800转30s）
3.前烘
1）将涂布好SU8光刻胶的硅片放置在热板上，进行预热烘烤，去除光刻胶中的挥发性有机溶ji，时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um ，设置温度65℃，烘烤15min，然后温度95度，烘烤15分钟）
4.曝光
1）将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。
2）使用相应的掩模（掩膜）放置在硅片上进行曝光，曝光时间和强度根据SU-8光刻胶的类型和厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um，设置曝光能量25mw/cm2，微流控光刻机价格，时间12s）
微流控芯片加工设备： 提供丰富多样的微流控芯片加工设备，涵盖SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作，从而提高实验效率和灵活性。
顶旭微控技术(图)-微流控光刻机企业-山东微流控光刻机由顶旭（苏州）微控技术有限公司提供。顶旭微控技术(图)-微流控光刻机企业-山东微流控光刻机是顶旭（苏州）微控技术有限公司今年新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：周经理。温馨提示：以上是关于顶旭微控技术(图)-微流控光刻机企业-山东微流控光刻机的详细介绍，产品由顶旭（苏州）微控技术有限公司为您提供，如果您对顶旭（苏州）微控技术有限公司产品信息感兴趣可以联系供应商或者让供应商主动联系您 ，您也可以查看更多与生物制品相关的产品！
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第2年
