匀胶机
调速范围和时间:I档:50~10000转/分,时间0~999s
II档:50~10000转/分,SU8光刻机,时间0~999s适用:直径5~100mm硅片及其他材料匀胶转速稳定性:±1%胶的均匀性:±2%电极功率:40W,单相110~240V真空泵抽气速率:>60L/min
顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业,我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。
桌面光刻机
曝光光源:紫外LED光源波长:365nm;曝光面积:4英寸、6英寸可选;曝光方式:单面接触式定时曝光;曝光分辨率:2um;曝光强度:20~200mW/cm2可调;曝光不均匀性:≤5%;光源平行性:≤2°;光源寿命:≥20000h;电源输入:AC220V±10V,50HZ功率:250W重量:25kg外形尺寸:382(长)*371(宽)*435(高)工作环境:温度0℃-40 ℃,相对湿度<80 %
SU8模具制备流程
1.后烘
将曝光后的硅片放置在热板上,进行后曝光烘烤,以确保光刻胶的交联反应完成。(举例说明:目标胶厚度50um,SU8光刻机,设置温度65℃,SU8光刻机优点,烘烤7min,然后温度95℃,烘烤3min)
2.显影
将硅片放入显影剂中,使未曝光部分的光刻胶溶解,形成模具的图案。(显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整,此处显影时间20min)
3.清洗
将显影后的硅片用异丙chun溶剂进行清洗,去除多余的光刻胶。
4.检查
使用显微镜检查制备的SU-8模具,测试观察制备的微结构尺寸,确认图案的清晰度和质量。
顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业,我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案
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