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东莞拉奇纳米科技有限公司
主营：纳米镀膜
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充入气：在高真空的条件下充入适量的气。
施加电压：在阴极（柱状靶或平面靶）和阳极（镀膜室壁）之间施加几百K直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电。
电子碰撞与电离：电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与原子发生碰撞，使气发生电离（在高压作用下Ar原子电离成为Ar+离子和电子）。
离子轰击靶材：入射离子（Ar+）在电场的作用下轰击靶材，使得靶材表面的中性原子或分子获得足够动能脱离靶材表面，沉积在基片表面形成薄膜。
二次电子运动：产生的二次电子会受到电场和磁场作用，LH300派瑞林镀膜设备，产生E×B漂移，新北派瑞林镀膜设备，其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar+来轰击靶材。
避免频繁的温度和湿度波动对镀膜过程产生不利影响。可以通过安装温度和湿度控制系统来自动调节室内环境，确保其在理想范围内保持稳定。
在镀膜过程中，注意防止灰尘和杂质的进入。保持操作环境的整洁，使用空气过滤器和干燥的环境来减少污染物的影响。
定期对镀膜设备进行维护和清洁，确保其处于良好的工作状态。
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第6年
