微弧氧化,是在电解质溶液中(一般是弱碱性溶液)施加高电压(直流、交流或脉冲)在材料表面原位生长陶瓷氧化膜的过程,该过程是物理放电与电化学氧化、等离子体氧化协同作用的结果。微弧氧化技术是在普通阳极氧化技术的基础上发展起来的,微弧氧化技术原理,进一步提高电压,使电压超出法拉第区,微弧氧化技术服务,达到氧化膜的击穿电压,就会在阳极出现火花放电现象,在材料表面形成陶瓷氧化膜,使等离子体氧化膜既有陶瓷膜的,微弧氧化技术,又保持了阳极氧化膜与基体的结合力。
微弧氧化
微弧氧化又称等离子体电解氧化、微等离子体氧化等,是通过电解液与相应电参数的组合,在铝、镁、钛等金属及其合金表面依靠弧光放电产生的瞬时高温高压作用,原位生长出以基体金属氧化物为主的陶瓷膜层。在微弧氧化过程中,化学氧化、电化学氧化、等离子体氧化同时存在,因此陶瓷层的形成过程非常复杂,至今还没有一个合理的模型能完全描述陶瓷层的形成。
微弧氧化处理后的铝基表面陶瓷膜层具有硬度高,耐蚀性强,绝缘性好,表面微弧氧化技术,膜层与基底金属结合力强,并具有很好的耐磨和耐热冲击等性能。微弧氧化技术工艺处理能力强,可通过改变工艺参数获取具有不同特性的氧化膜层以满足不同目的的需要;也可通过改变或调节电解液的成分使膜层具有某种特性或呈现不同颜色;还可采用不同的电解液对同一工件进行多次微弧氧化处理,以获取具有多层不同性质的陶瓷氧化膜层。微弧氧化技术、微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化
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