咨询电话：15827377724
武汉华卫科技有限公司
主营：敷料,外用膏贴
咨询电话：15827377724
主营：敷料,外用膏贴
您好，欢迎莅临华卫，欢迎咨询...
| 女士： |
武汉华卫科技有限公司创立于2002年，总部座落于战略发展基地武汉长江新城，始终致力于健康产业，是集研发、生产、销售、服务为一体的高新技术企业。先后投入上亿资金打造化生产线，已建成8000㎡、10万级洁净车间投入使用，构建完成的新材料生产线、功能性敷料生产线、膏贴生产线。
壳聚糖敷料
①作用机理
壳聚糖敷料是一种以从虾蟹、贝壳等提取出来的壳聚糖纤维为原料制备而成的高科技伤口敷料，不仅具有天然抑菌、止血、促进伤口愈合，而且具有良好的生物相容性、生物可降解性和生物学功能。
②产品特点
1.柔软舒适：外观柔软，具有很强的亲水性；
2.锁水阻菌：能迅速吸收创口表面的流出液，形成柔软的水凝胶状，长时间的锁住水份，为伤口提供一个良好的湿润环境；止血抑菌、促进表皮细胞生长，加速伤口愈合。
3.透明透气：呈透明状，易观察；肌肤可以自由的呼吸，给伤者好的呵护。
4.低致敏：使用方便，无刺激、
5.不粘黏：促进伤口愈合，减少的产生与收缩，取下敷料时不粘连，减少患者痛苦。
③使用方法
1.清洁创面，除净坏死组织和焦痂，用生理盐水或消毒水反复清洗创面，用消毒纱布吸干创面。
2.取适当规格本品：
对于平面创伤，完全覆盖并紧贴创面，使其四周至少超过创面边缘1CM以上，剪去多余部分，外用无菌纱布固定。渗出较多时，请及时更换外面的无菌纱布；
对于孔、洞等不规则创伤可视临床具体情况进行裁剪、折叠、卷曲后填、塞操作，必要时外用无菌纱布或护创贴固定。
3.正常情况下，可每14天更换一次本产品或遵照医嘱进行更换，更换时应对创面重新消毒，更换本品时，可直接揭除，必要时可酌情使用生理盐水或蒸馏水润湿后揭除，同时需对创面重新清洁消毒。
④适用范围
1.深、浅Ⅱ度烧创面
2.及削痂创面、
3.供皮区创面
4.皮肤的切口伤、擦伤、褥疮、溃疡
武汉华卫科技有限公司创立于2002年，总部座落于战略发展基地武汉长江新城，始终致力于健康产业，留置针贴代贴牌，是集研发、生产、销售、服务为一体的高新技术企业。先后投入上亿资金打造标准化生产线，已建成8000㎡、10万级洁净车间投入使用，构建完成国际的新材料生产线、功能性敷料生产线、膏贴生产线。
华卫科技护创功能性敷料系列
目前临床应用的主要有水胶体敷料、水凝胶敷料、泡沫敷料、藻酸盐敷料。
在伤口愈合的不同阶段，各类敷料都将发挥其独有功能，共同完成促进伤口快速1愈合的使命，
华卫科技凭借多年来的生产实践经验，研制并投产了涵盖内层敷料、外层敷料、早期敷料、后期敷料的全套功能性产品。
武汉华卫科技有限公司设有自主研究发展中心、万级洁净实验室，与上海、北京、武汉、郑州等相关研发机构组成开放联合的研发体系。
产品国内数万家机构，远销欧美及亚太地区等150多个国家。同时为客户提供研发、生产定制需求，目前已成为国内、OEM基地。
①护创?护脐贴
护创护脐贴，是采用当代国际高新技术，生产的超薄舒适型创新敷料，其的半透膜，具有良好的防水透气、低致敏性、高弹力等特点。
产品展示：护创护脐贴各种规格型号展示
适用范围：脐部护理、婴儿游泳、急慢性损伤伤口、小切割伤及擦伤等伤口。
武汉留置针贴代贴牌-武汉华卫科技由武汉华卫科技有限公司提供。武汉华卫科技有限公司坚持“以人为本”的企业理念，拥有一支高素质的员工队伍，力求提供更好的产品和服务回馈社会，并欢迎广大新老客户光临惠顾，真诚合作、共创美好未来。华卫——您可信赖的朋友，公司地址：湖北省武汉市江岸区二七路航天商务广场A座8楼，联系人：华卫。温馨提示：以上是关于武汉留置针贴代贴牌-武汉华卫科技的详细介绍，产品由武汉华卫科技有限公司为您提供，如果您对武汉华卫科技有限公司产品信息感兴趣可以联系供应商或者让供应商主动联系您 ，您也可以查看更多与医疗服务相关的产品！
免责声明：以上信息由会员自行提供，内容的真实性、准确性和合法性由发布会员负责，天助网对此不承担任何责任。天助网不涉及用户间因交易而产生的法律关系及法律纠纷， 纠纷由您自行协商解决。
风险提醒：本网站仅作为用户寻找交易对象，就货物和服务的交易进行协商，以及获取各类与贸易相关的服务信息的平台。为避免产生购买风险，建议您在购买相关产品前务必 确认供应商资质及产品质量。过低的价格、夸张的描述、私人银行账户等都有可能是虚假信息，请采购商谨慎对待，谨防欺诈，对于任何付款行为请您慎重抉择！如您遇到欺诈 等不诚信行为，请您立即与天助网联系，如查证属实，天助网会对该企业商铺做注销处理，但天助网不对您因此造成的损失承担责任！
联系：tousu@tz1288.com是处理侵权投诉的专用邮箱，在您的合法权益受到侵害时，欢迎您向该邮箱发送邮件，我们会在3个工作日内给您答复，感谢您对我们的关注与支持！
第4年
