MOSFET管有两个电极,一个是金属,另一个是外在硅,他们之间由一薄层二氧化硅分隔开。MOSFET管一般被生产制造为四种类型,分别是增强型和耗尽型、P沟道和N沟道这四种,但其实在实际的运用中一般只用增强型的N沟道和增强型的P沟道MOS管,因此一般情况下只要提及NMOS或是PMOS便是指的是这两种。
针对这两种增强型的MOS管,其中较为普遍使用的是NMOS —— 原因是增强型的N沟道MOS管的导通电阻更小,并且生产简便,因此在开关电源和电机驱动的运用中,mos价格,我们一般使用增强型的N沟道MOS管。
MOS管的三个管脚中有寄生电容的存在,虽然说这并不是大家所需要的,但其中生产制造加工工艺需要寄生电容的存在。有了寄生电容,宁波mos,这让其设计方案或挑选驱动电源电路的情况下会更麻烦一些,其中还没有解决的办法能避免。
在MOS管的漏极和源极中有一个寄生二极管叫做体二极管,就驱动感性负载来说,二极管对其十分重要。顺带说一句,体二极管只在单独的MOS管内存在,在集成电路芯片內部一般都是没有的。
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MOS管的选型是很重要的一个环节,MOS管选择不好有可能影响到整个电路的效率和成本,同时也会给工程师带来诸多麻烦。
为设计选择正确器件的头一步是决定采用N沟道还是P沟道MOS管。
在典型的功率应用中,当一个MOS管接地,而负载连接到干线电压上时,该MOS管就构成了低压侧开关。在低压侧开关中,应采用N沟道MOS管,这是出于对关闭或导通器件所需电压的考虑。 当MOS管连接到总线及负载接地时,mos公司,就要用高压侧开关。通常会在这个拓扑中采用P沟道MOS管,这也是出于对电压驱动的考虑。
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场效应管的主要参数有很多种,其中包含直流电流、交流电流的参数和极限参数,但一般应用时只需关心下列基本参数:饱和状态的漏源电流量IDSS夹断电压Up,跨导gm、漏源击穿电压BUDS、较大损耗输出功率PDSM和较大漏源电流量IDSM。
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