FLASH存储器的基本单元电路,与EEPROM类似,也是由双层浮空栅MOS管组成。但是一层栅介质很薄,210度进口存储器介绍,作为隧道氧化层。写入方法与EEPROM相同,在第二级浮空栅加以正电压,使电子进入一级浮空栅。读出方法与EPROM相同。擦除方法是在源极加正电压利用一级浮空栅与源极之间的隧道效应,把注入至浮空栅的负电荷吸引到源极。由于利用源极加正电压擦除,因此各单元的源极联在一起,这样,进口150度存储器介绍,快擦存储器不能按字节擦除,而是全片或分块擦除。
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一种情况下,由于没有预留空间,存储器,FLASH存储器在读写时交换块的损耗相当大,于是就会出现容量越来越小的情况。
对于第二种情况,厂商在设计时已经预留部分物理块,比如选择1024个物理块中的1000个作为数据存储使用,其余24个物理块(包括坏块)用作缓冲交换块部分。每次上电后,存储单元的逻辑地址和物理地址需要重新对照,交换块并不是固定的某一区块,进口175度存储器介绍,因而每一个物理块进行读写操作的几率几乎相同,不会出现哪一个物理块过早被损坏的现象。对于预留缓冲空间的FLASH存储器来说,基本不会出现容量越来越小的情况。
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