真空度:高真空度可以减少气体对膜层的污染,提高镀膜质量和附着力。
沉积速率:影响镀膜的效率和成本,需根据具体需求进行调整。
沉积温度:影响膜层的成分和性质,需根据材料特性和应用需求进行选择。
离子源功率:在离子镀膜中,离子源功率的提高有助于加速离子镀膜的速率和提高膜层质量。
基材预处理:基材表面的清洁度和处理方式直接影响膜层的附着力和质量。
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