表面处理
目的:确保基材表面的清洁度和平整度,以提高镀膜层的附着力和质量。
步骤:通常包括除油、除尘、去静电等预处理步骤,对于特殊材料可能还需要进行改性处理。
底涂
目的:在基材表面形成一层底涂层,以提高镀膜层的附着力和整体性能。
方法:可以采用喷涂或浸涂等方法,具体视镀件大小、形状、结构及用户设备等情况而定。
真空镀膜加工是利用化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体,借助气相作用或基体表面上的化学反应,南城化学气相沉积,在基体上制出金属或化合物薄膜的方法,低压化学气相沉积,主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使之蒸发或升华,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。
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