热板
温度:0~300℃温度稳定性:±1℃功率:850W台面大小:200x200mm
公司团队拥有丰富的经验和技术积累,持续将专ye知识与创新思维相结合,为客户提供高品pin质的解决方案。我们将始终坚持以客户为中心,不断挑战自我,不断追求卓yue,通过专ye、创新和合作,为客户创造更大的价值,共同kai创微流控领域的美好未来。
SU8模具制备流程
1.后烘
将曝光后的硅片放置在热板上,进行后曝光烘烤,以确保光刻胶的交联反应完成。(举例说明:目标胶厚度50um,设置温度65℃,烘烤7min,然后温度95℃,烘烤3min)
2.显影
将硅片放入显影剂中,使未曝光部分的光刻胶溶解,形成模具的图案。(显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整,此处显影时间20min)
3.清洗
将显影后的硅片用异丙chun溶剂进行清洗,去除多余的光刻胶。
4.检查
使用显微镜检查制备的SU-8模具,测试观察制备的微结构尺寸,确认图案的清晰度和质量。
顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业,我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案
光刻胶SU-8是一种常用的负性光刻胶,通常由环氧树脂和光敏剂组成,它具有许多优点,使其在制备微结构和器件方面成为理想的选择:
高分辨率:SU-8光刻胶具有出色的分辨率,可以制备细致的微结构,匀胶机性能,适合制作小尺寸线条和微细图案。
粘附性强:SU-8光刻胶在许多基片表面具有良好的粘附性,可以在不同材料上制备微结构。
厚度可调:SU-8光刻胶可以通过多次涂覆和光刻来控制厚度,适用于制备不同厚度的微结构。
化学稳定性:SU-8光刻胶具有较高的化学稳定性,可以耐受许多溶剂和化学物质,温州匀胶机,适用于各种应用环境。
热稳定性:SU-8光刻胶在高温下具有较好的稳定性,适用于需要高温处理的制备过程。
多层光刻:SU-8光刻胶可用于多层光刻制备,能够实现更复杂的微结构和器件。
应用广泛:SU-8光刻胶在微流体器件、生物芯片、MEMS、光学器件等多个领域中得到广泛应用。
顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业。提供丰富多样的微流控芯片加工设备,涵盖SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作,从而提高实验效率和灵活性。
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