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商丘金常来金属制品有限公司
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溅射技术:
溅射技术按产生等离子体的方式可分为:
a. 利用直流辉光放电的二极溅射;
b. 利用热丝弧光放电的三极溅射;
c. 利用射频放电的射频溅射;
d. 利用封闭跑道磁场控制辉光放电的磁控溅射.
2 磁控溅射阴极结构:
目前工业用磁控溅射装置主要是采用矩形平面磁控溅射阴极(图a)，一般使用的靶材尺寸有两种规格: VT机:长×宽×厚(450.5×120×6)mm; ZCK机: 460×100×6.圆柱形磁控溅射阴极也逐步运用到生产当中(图b)，两者相比，平面靶材的利用率只有20~30%，即利用率低.
点可蒸发任何材料薄膜纯度高直接作用于材料表面，热
缺点电子结构复杂，造价高化合物沉积时易分解，化学比失调
3激光蒸发镀膜
采用高能激光束对材料进行蒸发，项城不锈钢镀钛服务，用以形成薄膜的方法，金属表面不锈钢镀钛服务，一般称为激光蒸镀。
优点薄膜纯度高蒸发速率高特别适合蒸发成分复杂的合金或化合物，膜层的化学计量比与靶材保持一致
缺点
易产生微小颗粒飞溅，影响薄膜质量
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第5年
