等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺,仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米,处理深度为0.3-4.5纳米.抛光物的表面粗糙度在1MM范围内,因此等离子纳米化学活化工件表面,去除表面分子污染层,交叉链接表面化学物质.
等离子抛光是工件与抛光液中通电脱离的金属离子吸附在工件表面,工件凸起处电流冲击高而去除快,电流流动,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被整平。
微观不平处的氧化层薄,因此侵蚀总是发生在凸起部位。此外,被抛光表面被施加足够高的电压后,它和气体层、蒸气、电解液之间会产生很高的电场强度,这种强度也在微观不平处得到强化。这些使表面微观凸起部位被削平,达到抛光效果。
这是目前的抛光技术,电浆抛光加工,在未来有替代化学抛光、电解抛光、机械抛光等污染型抛光技术的趋势。等离子抛光后,材料表面微观形态变化使产品表面质量提升、性能改善:粗糙度降低,均匀性提升,耐磨性和抗腐蚀性更强,抛光难度降低,减少了产品变形,提高了尺寸稳定性,是做产品的利器。
精通眼镜制造的各种工艺技术,还自营有等离子抛光加工点,在多年的实践中,积累了非常丰富的等离子抛光技术的应用经验,等离子抛光能做什么,茂名电浆抛光,不能做什么,能做到什么程度,能解决什么问题,能替代哪些工艺,什么材质和结构的产品用什么参数去抛光等,拥有实际的实战成功案例;并针对有代表性的产品抛光难题进行不断摸索、测试、改进,并进行归纳总结,形成了一套行之有效,成熟稳定的环保抛光工艺体系。
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