基材清洁:首先,需要将待镀膜的基材进行的清洁处理,去除表面的油脂、氧化物、尘埃等杂质,确保基材表面干净,为后续的镀膜过程提供良好的基础。
真空腔体:镀膜设备内部通常有一个真空腔体,海珠聚对二甲苯,用于在镀膜过程中保持一定的真空度。这个真空环境可以避免空气中的杂质影响镀膜质量,并有助于有机高分子材料的蒸发和沉积。
真空泵:使用真空泵将腔体内的空气抽出,建立并保持所需的真空度。这个真空度通常需要在一定的范围内控制,以适应不同的镀膜材料和工艺要求。
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