SU8模具加工平台旨在为SU8模具加工提供一个gao效、全mian的解决方案,该平台集成了桌面光刻机、匀胶机和热板等he心设备。桌面光刻机,体积小巧,采用LED光源,曝光分辨率可达2um,曝光均匀性大于90%,可实现微纳结构的精细制备;匀胶机,转速稳定性为±0.5%,转速达10000转,桌面光刻机哪家好,可确保光刻胶均匀涂敷,提高一致性;热板,温度稳定性±1%,可为SU8模具提供充分的烘烤,从而提升SU8模具结构的耐久性和机械性能。相比传统加工平台,设备体积庞大,环境要求严苛,桌面光刻机价格,SU8模具加工平台适应性强,光刻机占地面积小,普通实验室也可轻松部署。SU8模具加工平台,有利于客户快速实现芯片制备,为微流控技术的推广和应用提供便捷途径。
SU8模具加工设备介绍SU8模具加工设备是一种的精密蚀刻机,采用高精度数控系统进行操作。该设备的优点包括、稳定和的切割能力以及的性能指标和工作稳定性等特点。其工艺范围广,可以适应多种图形微小型零件的制作,是制作UV软硬结合模的机型,特别适合电子行业如手机、数码相机及半导体发光器件等行业使用具有投资小、快;效益高等特点.
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前烘
1)将涂布好SU8光刻胶的硅片放置在热板上,进行预热烘烤,去除光刻胶中的挥发性有ji溶剂,时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。(举例说明:目标胶厚度50um ,设置温度65℃,西藏自治桌面光刻机,烘烤15min,然后温度95度,桌面光刻机设计,烘烤15分钟)
曝光
1)将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。
2)使用相应的掩模(掩膜)放置在硅片上进行曝光,曝光时间和强度根据SU-8光刻胶的类型和厚度进行调整。(举例说明:目标胶厚度50um,设置曝光能量25mw/cm2,时间12s)
后烘
将曝光后的硅片放置在热板上,进行后曝光烘烤,以确保光刻胶的交联反应完成。(举例说明:目标胶厚度50um,设置温度65℃,烘烤7min,然后温度95℃,烘烤3min)
六、显影
将硅片放入显影剂中,使未曝光部分的光刻胶溶解,形成模具的图案。(显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整,此处显影时间20min)
清洗
将显影后的硅片用异bing醇溶剂进行清洗,去除多余的光刻胶。
检查
使用显微镜检查制备的SU-8模具,测试观察制备的微结构尺寸,确认图案的清晰度和质量。
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