钢研纳克-ICP等离子体发射光谱仪厂家

钢研纳克双向观测Plasma 3000 ICP光谱仪分光系统

仪器采用径向观测与轴向观测设计，适应亚ppm到高含量的元素测量。 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，使用CaF2棱镜，提高光路传输效率。

优化的光学设计，采用非球面光学元件，改善成像质量，提高光谱采集效率。 光室气体氛围保持技术，缩短光室充气时间，提高紫外光谱灵敏度及稳定性，开机即可测量。 包围式立体控温系统，保障光学系统长期稳定无漂移。

光源

固态射频发生器，稳定，体积小巧，匹配速度快

冷锥消除尾焰技术，地降低自吸效应和电离干扰，从而获得更宽的动态线性范围和更 低的背景，保证准确的测量结果。 具有绿色节能待机模式，待机时降低输出功率，减小气体流量，仅维持等离子体运行，节约使用成本。

简洁的炬管安装定位设计，快速定位，的位置重现。 实时监控仪器运行参数，CAN工业现场总线，保障通讯可靠。

进样系统

简洁的炬管安装设计，自动定位炬管位置，的位置重现。

ICP光谱仪使用质量流量控制器控制冷却气、辅助气和载气的流量，保障测试性能长期稳定。 多通道12滚轮蠕动泵，提升样品导入稳定性。

检测器

大面积背照式CCD检测器，ICP等离子体发射光谱仪，全谱段响应，高紫外量化效率，抗饱和溢出，具有极宽的动态范

围和极快的信号处理速度。 一次曝光，完成全谱光谱信号的采集读取，从而获得更为快速、准确的分析结果。

ICP光谱仪具有同类产品中靶面尺寸，像素，单像素面积24μm X 24μm，三级半导体制冷，制冷温 度 低，具有更低的噪声和更好的稳定性。

软件系统

人性化的界面设计，流畅易懂，简便易用，针对分析应用优化的软件系统，无须复杂的方法开发， 即可快速开展分析操作。

丰富的谱线库，智能提示潜在干扰元素，帮助用户合理选择分析谱线。 轻松的观测方式设置，直观的测试结果显示。

安全防护

电磁屏蔽，减少电磁辐射 连锁门保护，ICP等离子体发射光谱仪价格，避免用户误操作可能带来的风险 防紫外观测窗

ICP 光谱仪的性能是选择的重要因素之一，ICP等离子体发射光谱仪厂家，主要包括以下几个方面：

灵敏度：ICP 光谱仪的灵敏度是指仪器能够检测到的较小元素浓度。灵敏度越高，仪器能够检测到的元素浓度越低，检测限越低。

精度：ICP 光谱仪的精度是指仪器测量元素浓度的准确程度。精度越高，测量结果越准确。

稳定性：ICP 光谱仪的稳定性是指仪器在长时间工作时的稳定性。稳定性越好，仪器的测量结果越稳定。

干扰：ICP 光谱仪的干扰是指仪器在测量元素浓度时受到其他元素的影响。干扰越小，测量结果越准确。

分辨率：ICP 光谱仪的分辨率是指仪器能够区分不同波长的能力。分辨率越高，仪器能够区分的波长范围越广，测量结果越准确。

总之，选择 ICP 光谱仪时，需要根据实际需求和应用场景选择合适的性能参数，以确保测量结果的准确性和可靠性。

钢研纳克“ICP痕量分析仪器的研制与应用”项目顺利通过验收

2016年4月12日，北京市科学技术会在钢研纳克永丰产业基地主持召开了国家重大科学仪器设备开发专项“ICP痕量分析仪器的研制与应用”项目(项目编号2011YQ140147)初步验收会议。

本次初步验收会由李建玲处长主持，会议成立了项目初步验收技术组，金国藩院士作为组组长。组听取了项目及各承担单位的汇报，审阅了相关资料，进行了现场检查，经质询和讨论，终形成了验收评审意见。

和一致认为项目验收材料齐全、规范，符合验收要求。项目成功开发出具有自主知识产权的ICP全谱光谱仪、ICP质谱仪两种痕量分析仪器整机，实现推广应用;了ICP射频源、四极杆射频源、激光烧蚀固体直接进样系统、多位自动进样装置、基于中阶梯光栅和大面积CCD采集的高分辨二维分光系统、碰撞反应池、中阶梯光栅刻划、四极杆等关键部件、关键技术及元器件技术和工艺难题;针对国内用户的普遍特点和特殊需求，ICP等离子体发射光谱仪厂家，在仪器中集成了多功能开放性软件、谱线和分析方法数据库，提升国产分析仪器的国际竞争力。项目执行期内共完成了分析方法、应用、对比报告51篇，形成行业标准8项，38项(其中授权19项)，软件著作权4项，发表65篇。项目预期目标全部实现。

在工程化和产业化方面，项目牵头单位已经在永丰建成ICP光谱仪、ICP质谱仪产业基地，将可靠性管理的理论、工具、方法和装备应用于分析仪器开发的全流程，建立了完整的质量管理体系，建设了ICP射频源、激光烧蚀进样系统、ICP全谱光谱仪、ICP质谱仪4条生产线。ICP全谱光谱仪已经获得生产许可证书，产品已经销售至宁夏、浙江、山东、新疆、湖南、河南及国外(伊朗)等地，产品经过安装和调试，均顺利通过验收。