曝光操作步骤
1、安装硅片:将待曝光硅片平放在设备的载台上,确保位置准确。
2、放置光刻板:将光刻板平放在硅片上方,如果使用菲林掩膜,需要在其上方放置透明玻璃以保持平稳。
3、设定曝光参数:使用控制面板设置曝光时间和强度,微流控光刻机介绍,根据具体需求进行调整。
4、启动曝光:确认参数设定无误后,点击启动按钮,设备将开始进行曝光。
5、监控曝光过程:在曝光过程中,您可以通过设备界面监控曝光进度,确保一切顺利进行。
6、曝光完成:曝光结束后,设备会发出提示,微流控光刻机设计,取出硅片和光刻板。
脑芯片如何定制使用方法该设备操作简单,易于上手,具体操作如下:
一、曝光前准备工作
1、硅片处理:确保待曝光硅片经过匀胶处理,表面干净平整,微流控光刻机优势,没有明显的污渍或破损。
2、选择光刻板:根据项目需要,甘肃微流控光刻机,选择合适尺寸的光刻板,本设备兼容4英寸、5英寸或6英寸。
3、设备检查:仔细检查设备,确保所有部件处于正常工作状态,确保操作环境良好。
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