LDI机
LDI曝光速度的瓶颈因素包括:数据的储存与传送、镭射能量、切换速度、多边型的制作速度、光阻的感光度、镭射头移动速度、电路板传送作业模式等。
以基本的影响因素而言,有三个独立的因子会影响曝光速率:
1、能量密度 2、数据调变的速度 3、机械机构速度
光阻必须要有一定量的能量送到表面才能产生适当的曝光,直接成像,而高敏度的光阻需要的能量相对较低。因为总能量等于功率乘上时间,高敏度的感光膜在同样的功率下所需的曝光时间就比较短。而曝光系统的功能输出,直接成像厂家,主要来自于系统的光源设计,所以这是能量与时间的关系与解析度无关。
网版曝光机
功能特点
1、高功率灯:可选择装配日本进口节能率,快启动3000W高功率紫外线曝光灯源,直接成像曝光机,波长范围360 ~ 410 nm 。
2、高速真空吸气系统:配备进口无尘、无油、静音型真空抽气泵极高张力抗紫外线橡皮布,抽真空速度均匀快速,使网版与底片能够快速、紧密、平整的贴实,适用于高精密线条和高密度网线曝光。
江苏迪盛智能科技有限公司主营直接成像、网版曝光机、无菲林曝光机等产品,线路板曝光机,欢迎来电咨询!
晒版机(曝光机)的工作原理及操作步骤
晒版机是用于制作印版的一种接触曝光成像设备。
操作要求:
(1)在工作过程中印版应保持与玻璃表面的完全接触,真空系统的真空调节的较小范围为0-86.6kPa(0-650mmHg);关闭晒版机电源后5分钟晒版机的真空度不得降低20kPa(150mmHg)。检测方法如下:将与机器规格相对应的较大尺寸的印版放在晒版机内,闭合真空系统,开启真空泵,用秒表测量真空系统中真空表所显示的真空度达到80kPa(650mmHg)所需时间;然后关闭电源,用秒表计时5分钟,观察真空表所示的真空系统的密封性能。
直接成像-迪盛微电子科技公司-直接成像曝光机由迪盛(武汉)微电子有限公司提供。迪盛(武汉)微电子有限公司是江苏 苏州 ,光电子、激光仪器的见证者,多年来,公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针,满足客户需求。在迪盛智能领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈,共创迪盛智能更加美好的未来。温馨提示:以上是关于直接成像-迪盛微电子科技公司-直接成像曝光机的详细介绍,产品由迪盛(武汉)微电子有限公司为您提供,如果您对迪盛(武汉)微电子有限公司产品信息感兴趣可以联系供应商或者让供应商主动联系您 ,您也可以查看更多与光电子/激光仪器相关的产品!
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