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直接成像-迪盛微电子科技公司-直接成像曝光机

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LDI机

LDI曝光速度的瓶颈因素包括:数据的储存与传送、镭射能量、切换速度、多边型的制作速度、光阻的感光度、镭射头移动速度、电路板传送作业模式等。

以基本的影响因素而言,有三个独立的因子会影响曝光速率:

1、能量密度   2、数据调变的速度   3、机械机构速度

光阻必须要有一定量的能量送到表面才能产生适当的曝光,直接成像,而高敏度的光阻需要的能量相对较低。因为总能量等于功率乘上时间,高敏度的感光膜在同样的功率下所需的曝光时间就比较短。而曝光系统的功能输出,直接成像厂家,主要来自于系统的光源设计,所以这是能量与时间的关系与解析度无关。

网版曝光机

功能特点

1、高功率灯:可选择装配日本进口节能率,快启动3000W高功率紫外线曝光灯源,直接成像曝光机,波长范围360 ~ 410 nm 。

2、高速真空吸气系统:配备进口无尘、无油、静音型真空抽气泵极高张力抗紫外线橡皮布,抽真空速度均匀快速,使网版与底片能够快速、紧密、平整的贴实,适用于高精密线条和高密度网线曝光。

江苏迪盛智能科技有限公司主营直接成像、网版曝光机、无菲林曝光机等产品,线路板曝光机,欢迎来电咨询!

晒版机(曝光机)的工作原理及操作步骤

晒版机是用于制作印版的一种接触曝光成像设备。

操作要求:

(1)在工作过程中印版应保持与玻璃表面的完全接触,真空系统的真空调节的较小范围为0-86.6kPa(0-650mmHg);关闭晒版机电源后5分钟晒版机的真空度不得降低20kPa(150mmHg)。检测方法如下:将与机器规格相对应的较大尺寸的印版放在晒版机内,闭合真空系统,开启真空泵,用秒表测量真空系统中真空表所显示的真空度达到80kPa(650mmHg)所需时间;然后关闭电源,用秒表计时5分钟,观察真空表所示的真空系统的密封性能。

直接成像-迪盛微电子科技公司-直接成像曝光机由迪盛(武汉)微电子有限公司提供。迪盛(武汉)微电子有限公司是江苏 苏州 ,光电子、激光仪器的见证者,多年来,公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针,满足客户需求。在迪盛智能领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈,共创迪盛智能更加美好的未来。

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