等离子抛光技术是目前进的表面微观整平技术之一,可以在较短时间内实现对样件表面粗糙度的显著下降。该技术利用离子放电原理,使放电通道更多的是在微观凸起的位置形成,从而优先去除该位置的材料,实现表面微观整平。抛光开始阶段,由于样件表面存在明显凹凸不平的状态,使得放电通道更多选择在凸起的位置形成,粗糙度下降速度快。但随着抛光时间的延长,粗糙度下降的速度逐渐减缓。离子抛光技术是现代制造业中不可或缺的重要技术,为提高产品质量提供了强有力的保障。
等离子抛光能取代哪些传统工艺?等离子抛光是靠离子轰击来工作的、等离子抛光是要靠时间累积实现的,时间越久抛光越平整、但成本也会上升、控制成本也就要控制时间,要找到一个合适点、既能达到品质又能节约时间的那个点,等离子抛光不能取得传统抛光的开粗,因为这道工序材料去除量很大,交给等离子抛光来完成需要很长时间成本不划算,等离子抛光可以取代传统抛光行业的半精抛和精抛工序、这些工序在传统抛光行业里面技术要求高的用等离子抛光来实现就很简单。
电解质等离子抛光过程中受抛光产生的金属微粒的干扰,无法使用电导法对抛光液中有效成分的含量进行检测,为了解决这一问题,基于实验提出了两种确定抛光液有效成分含量的方法。一种方法是利用抛光液中的有效成分低于抛光的电流密度会明显下降的现象,定时测抛光过程中电流值和抛光液温度,以确定是否需要补充。另一种方法是通过实验得到定抛光液温度下抛光量与有效成分消耗量的关系,再在抛光过程中记录抛光量计算抛光液中有效成分含量的方法。
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