电解质等离子抛光过程中受抛光产生的金属微粒的干扰,无法使用电导法对抛光液中有效成分的含量进行检测,为了解决这一问题,基于实验提出了两种确定抛光液有效成分含量的方法。一种方法是利用抛光液中的有效成分低于抛光的电流密度会明显下降的现象,定时测抛光过程中电流值和抛光液温度,以确定是否需要补充。另一种方法是通过实验得到定抛光液温度下抛光量与有效成分消耗量的关系,再在抛光过程中记录抛光量计算抛光液中有效成分含量的方法。
关于等离子抛光设备的技术而道远等离子抛光设备的技术水平目前国外有着较长的研发历史和经验,其产品在国际市场上有着较高的竞争力和认可度,中国在等离子抛光技术方面起步较晚,虽然近年来有所发展,但仍存在一定的技术差距,尤其是在等离子体生成、控制和稳定方面。市场占有率方面。国外在等离子抛光设备市场上占据着较大的份额,其产品广泛应用于手机电子、数码配件、集成电路制造、运动器材、眼镜制造、不锈钢洁具、餐具、器械、手表饰品、汽车配件等领域。中国在等离子抛光设备市场上还有很大的发展空间。
粗抛的目的是去除工件表面较大的披锋、毛刺和刮伤等,这一阶段应具有大的抛光速率,粗抛形成的表层损伤是次要的考虑,不过也应当尽可能小。抛光机抛光时,试样磨面与抛光盘应相对对平行并均匀地轻压在抛光盘上,注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。抛光技术是金属表面处理的关键技术之一,抛光无论是在传统产业还是在电子数码产业中是不可或缺的生产步骤。
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