半导体污水分为三大类:含氟废水、有机废水和金属离子废水。
为了除去污水中COD、氨氮、总氮等有机污染物,一般会采用好氧法和缺氧厌氧法相结合的方法进行处理。
金属离子污水则是根据不同的金属离子采用不同的方法,常见的方法有活性炭吸附法、化学沉降法、去离子交换法等。
对于含氟废水,主要是往污水中加入钙盐,钙盐可以跟水中氟离子形成CaF2,再加上混凝剂辅助就可以去除污水中的氟离子,这就是常说的化学沉降法。
因电子半导体行业的用水率高,所以为了降低用水成本、减少对环境的污染,污水回用对于电子半导体行业的经营者是极其重要的。
半导体污水除了除了以上方法以外,还可以对污水进行电渗析、离子交换树脂、吸附、冷冻等,在进行污水处理期间还可以去除一些杂质以及特殊的气味。
工业废水处理设备出水水质稳定,污泥产量小,易于处理。 在接触氧化槽中,采用曝气器进行鼓风曝气,使纤维束连续漂浮,曝气均匀,微生物生长成熟,并对活性污泥法进行了表征。 它具有反硝化和脱磷的能力,可以通过调整设备结构实现处理工业废水,工厂污水处理,生活污水和城市污水的能力。 接触氧化池中的填料大多为复合软填料,重量轻,强度高,物理化学性质稳定,比表面积大,生物膜附着力强,污水与生物膜接触
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生物膜形成的效果不明显:此时,应检查地埋式污水处理设备的曝气是否存在不均匀的失效。 如果爆1炸正常,可考虑向微生物中添加一些营养素; 曝气不均匀:在这种情况下,首先检查曝气风扇的阀门是否异常,曝气头是否已损坏。 不合格的出水水质:如果地埋式污水处理设备的水质不合格,检查进水量是否过大,曝气是否不均匀,沉淀池内的污泥是否清洗,消毒设备是否正常运行 通常,以及污水是否被消毒。
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