等离子要运用在抛光上面是需要具备一定的条件才可以做抛光的,首先要产生等离子必须要有电场存在、换句通俗的话来说要有电源存在还要有被离化的物质,在抛光邻域被离化的物质就是我们的抛光盐,等离子抛光盐是个关键的介质、它也要具备两个条件,一被离化成离子轰击产品表面、二离化的酸根离子要能跟产品表面发生微反应,且是正向的作用、至少不能是负作用,只有这样才能得到等离子抛光的功效。
等离子抛光的原理在高温超高电流的作用下,电解质水产生电离子,分离化学液态电浆,利用电解质水溶和高温、高压的配合产生等离子,等离子与工件的表面摩擦而产生抛光的效果。等离子抛光的过程中涉及到化学变化,其材料去除机理主要表现在材料的化学去除过程,其原理为反应等离子在放电过程中产生许多离子和化学活物质,这些中性物质称其为自由基,与原来的气体分子相比,这些自由基是活跃的刻溶剂。等离子体的材料去除机理不仅仅包括化学反应的去除原理,还包含物理方法的去除原理,但主要的还是气相化学反应去除原理。
传统金属表面处理方式往往需要借助各种设备,从机械切削、化学腐蚀到电化学处理等,过程繁琐,效率低下,且易产生环境污染。而近年来兴起的等离子抛光技术革新了金属表面处理方式,可以快速、地抛光金属表面,使其变得光滑,亮丽,达到理想的质感。等离子抛光技术是指利用离子放电原理,通过高能量的放电通道来抛光材料表面,从而实现金属表面微观整平。相比传统处理方式,等离子抛光技术适用于多种以上的金属材质,一台设备即可完成多种材质产品的抛光处理,省去了企业高昂的购机成本。此外,等离子抛光技术效率极高,一分钟即可抛光100多件产品,抛光效果镜面高亮精度可达0.002mm,粗糙度(RMS)可达0.01微米,生产效率得到大幅提升。
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