注射泵产品
1 注射泵 DLSP 520 Pro
2 注射泵LSP02-2B技术指标LSP02-2B
工作方式 :注射、拍取、先注射后胜取、无拍取后注射、连续
通道数量: 2
zui大行程 :140mm
行程分辨率: 0.156um
线速度范围 :5um/min-130mm/min (液量=线速度X注*器内截面积]
线速度调节分辨率: 5um/min
行程控制精度: 误差E士0.5%行程注zui大行程的30%时》
额定线性推力>180N
注*器选择 :内置主要厂家、主要型号注she器供选择
注*器自定文: 可直接输入注she器内径
流量校正: 通过校正程序获得更为jing确的液量
显示参数选择: 液量、流量或线速度
掉电记忆 :重新上电后保持掉电前的参数设置
通信接口: RS495
外形尺寸 :280X250X140(mm)
适用电源 :AC 196V-240V/40W
工作环境温度: 0°C~40°C
工作环境相对湿魔<80%
微流控光刻机如何报价微流控光刻机是一种精密的设备,其报价会受到多种因素的影响。首先,微流控光刻机的制造成本是一个重要的考虑因素,包括设备的材料成本、制造工艺成本、人工成本等。其次,微流控光刻机的性能也是一个重要的考虑因素,包括其精度、速度、稳定性等。此外,微流控光刻机的售后服务也是一个重要的考虑因素,包括设备的维护、维修、升级等。微流控光刻机的市场供求也是一个重要的考虑因素,如果市场上供应过剩,价格可能会下降
前烘
1)将涂布好SU8光刻胶的硅片放置在热板上,进行预热烘烤,SU8光刻机公司,去除光刻胶中的挥发性有ji溶剂,时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。(举例说明:目标胶厚度50um ,设置温度65℃,SU8光刻机设计,烘烤15min,SU8光刻机怎么样,然后温度95度,烘烤15分钟)
曝光
1)将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。
2)使用相应的掩模(掩膜)放置在硅片上进行曝光,曝光时间和强度根据SU-8光刻胶的类型和厚度进行调整。(举例说明:目标胶厚度50um,福建SU8光刻机,设置曝光能量25mw/cm2,时间12s)
后烘
将曝光后的硅片放置在热板上,进行后曝光烘烤,以确保光刻胶的交联反应完成。(举例说明:目标胶厚度50um,设置温度65℃,烘烤7min,然后温度95℃,烘烤3min)
六、显影
将硅片放入显影剂中,使未曝光部分的光刻胶溶解,形成模具的图案。(显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整,此处显影时间20min)
清洗
将显影后的硅片用异bing醇溶剂进行清洗,去除多余的光刻胶。
检查
使用显微镜检查制备的SU-8模具,测试观察制备的微结构尺寸,确认图案的清晰度和质量。
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